eneq P400A 和 P800 是为工业规模生产设计的原子层沉积系统。它们是从研发阶段到大规模的工业化生产的理想工具。该系统经过工业认证，技术成熟可靠。该设计主要基于在严苛的工业应用中连续运行25年（24/7）的丰富经验。

我们的大多数工业客户需要用的设备和工艺设置。Beneq 拥有多台 P400A 和P800 系统，用于满足应用开发和薄膜研发过程中的各种镀膜需求。
因此，那些寻找生产设备的客户可以在进行投资之，验证工艺及设备的技书性能和财务成本。此外，我们还提供小规模量产的可能性，直到客户可以实现自主生产。

性能优势

• 研发阶段后可立即扩大到生产阶段。

• 用于可重复生产控制的日志记录。

• UPS支持功能。

• 维护需求更低。

• 采用独特的迷你尺寸设计，可满足装载、批量生产、基底尺寸的灵活性以及污染控制。

• 采用迷你尺寸和有的过滤器设计，可从 P400 系统上分离进行清洗工作。进行清洗时无需停机。

• 具有高性价比的热腔和大容量批量系统。

• 独特的热稳定源供应系统、嵌入式快速计量阀和集成的驱体通道。

• 真空泵系统采用有的大容量驱体吸附和过滤系统，可实现大批量加工。

• 除了正常的加热回路以外，附加 PLC 可通过用热电偶避免过热，从而提高生产安全性。

• 经过30年的发展，行业见证的高重复性和生产可靠性。