日本 EIS-200离子束刻蚀系统 Elionix
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品牌名称：$brandModel.Title(进口品牌)型号： 原产地：日本 发布时间：2022/3/1 19:58:28更新时间：2024/11/3 8:10:03
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详细内容
EIS-200是Elionix推出的一款基于电子回旋共振技术（ECR）的小型离子束蚀刻系统，特别适合于科研用离子束刻蚀、减薄，清洗、镀膜等。
EIS-200原理：
利用ECR技术产生高能Ar+离子束，Ar+离子束通过电场加速到达样品表面，对样品进行物理的轰击达到刻蚀作用。
EIS-200具有以下优点：
? 方向性好，各向异性，陡直度高，侧向刻蚀少
? 分辨率高
? 不受刻蚀材料限制，可对石英等材料进行蚀刻
? 可控制蚀刻Taper角
? 可以设定多样的实验条件
二、主要功能
l 主要应用
纳米图案刻蚀
高深宽比蚀刻
表面清洁
离子减薄
l 技术能力
| 离子枪 | ECR型离子枪 |
| 离子化气体 | Ar、Xe等、惰性离子气体 |
| N2、O2、CF4等、活性离子气体 | |
| 加速电压 | 100V～3000V 连续可变（高加速电压可选) (输出电流20mA MAX) |
| 离子束流密度 | Ar:1.5mA/cm2以上 (2kV加速時） |
| O2:2.0mA/cm2以上 (2kV加速時） | |
| 离子束有效直径 | Φ20mm（FWHM35mm) |
| 离子束稳定度 | ±3％/2H |
| 大样品尺寸 | Φ4英寸 |
