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三氧化二铝磁控溅射仪
点击次数:18发布时间:2022/4/27 17:36:08
更新日期:2022/4/27 17:36:08
所 在 地:中国大陆
产品型号:KT-Z1650PVD
优质供应
详细内容
三氧化二铝磁控溅射仪KT-Z1650PVD
应用域:
离子溅射仪在扫描电镜中应用十分广泛,通过向样品表面喷镀金、铂、钯及混合靶材等金属消除不导电样品的荷电现象,并提高观测效率,另外可以使用喷碳附件对样品进行蒸碳,实现不导电样品的能谱仪元素定性和半定量分析。
三氧化二铝磁控溅射仪KT-Z1650PVD厂家供应技术参数;
控制方式 | 7寸人机界面 手动 自动模式切换控制 |
溅射电源 | 直流溅射电源 |
镀膜功能 | 0-9995段可变换功率及挡板位和样品速度程序 |
功率 | ≤1000W |
输出电压电流 | 电压≤1000V 电流≤1A |
真空 | 机械泵 ≤5Pa(5分钟) 分子泵≤5*10^-3Pa |
溅射真空 | ≤30Pa |
挡板类型 | 电控 |
真空腔室 | 石英+不锈钢腔体φ160mm x 170mm |
样品台 | 可旋转φ62 (可安装φ50基底) |
样品台转速 | 8转/分钟 |
样品溅射源调节距离 | 40-105mm |
真空测量 | 皮拉尼真空计(已安装 测量范围10E5Pa 1E-1Pa) |
预留真空接口 | KF25抽气口 KF16放气口 6mm卡套进气口 |