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一、EDI工作原理：
EDI膜堆是由夹在两个电之间一定对数的单元组成。在每个单元内有两类不同的室：待除盐的淡水室和收集所除去杂质离子的浓水室。淡水室中用混匀的阳、阴离子交换树脂填满，这些树脂位于两个膜之间：只允许阳离子透过的阳离子交换膜及只允许阴离子透过的阴离子交换膜。树脂床利用加在室两端的直流电进行连续地再生，电压使进水中的水分子分解成 H+及 OH-，水中的这些离子受相应电的吸引，穿过阳、阴离子交换树脂向所对应膜的方向迁移，当这些离子透过交换膜进入浓室后， H +和 OH-结合成水。这种 H+和 OH-的产生及迁移正是树脂得以实现连续再生的机理。
当进水中的 Na+及 CI-等杂质离子吸咐到相应的离子交换树脂上时，这些杂质离子就会发生象普通混床内一样的离子交换反应，并相应地置换出 H+及 OH-。一旦在离子交换树脂内的杂质离子也加入到 H+及 OH-向交换膜方向的迁移，这些离子将连续地穿过树脂直至透过交换膜而进入浓水室。这些杂质离子由于相邻隔室交换膜的阻挡作用而不能向对应电的方向进一步地迁移，因此杂质离子得以集中到浓水室中，然后可将这种含有杂质离子的浓水排出膜堆。
在位于模组两端的阳(+)和阴(-)之间加一直流电场。电势就使交换到树脂上的离子沿着树脂粒的表面迁移并通过膜进入浓水室。阳吸引负电离子(如OH，CI)这些离子通过阴离子膜进入相临的浓水流却被阳离子选择膜阻隔，从而留在浓水流中。阴吸引纯水流中的阳离子(如H，Na)。这些离子穿过阳离子选择膜，进入相临的浓水流却被阴离子膜阴隔，从而留在浓水流中。当水流过这两种平行的室时，离子在纯水室被除去并在相临的浓水流中聚积，然后由浓水流将其从模组中带走。在纯水及浓水中离子交换树脂的使用是ElectropupreEDI技术和利的关键。一个重要的现象在纯水室的离子交换树脂中发生。在电势差高的局部区域，电化学反应分解的水产生大量的H和OH。在混床离子交换树脂中局部H和OH的产生使树脂和膜不需要添加化学药品就可以持续再生。
二、EDI超纯水设备基本参数
1、给水：RO纯水，一般水的电导率为4-30us/cm。
2、PH：5.0-8.0(在此PH条件下，水硬度不能太高)
3、温度：5-35℃
4、进水压力：较大为4kg/cm2(60psi)，较小为1.5kg/cm2(25psi)。
1、给水：RO纯水，一般水的电导率为4-30us/cm。
2、PH：5.0-8.0(在此PH条件下，水硬度不能太高)
3、温度：5-35℃
4、进水压力：较大为4kg/cm2(60psi)，较小为1.5kg/cm2(25psi)。
三、EDI的进水要求
反渗透RO产水，电导率1-20μs/cm，较大允许电导率≤30μs/cm（NaCl）。
pH值： 7.5—9
温度： 15℃－－35℃
进水压力（DIN）：0.15—0.4MPa
浓水进水压力（C ） 0 10 0 3MP IN）： 0.10—0.3MPa
产水压力(DOUT)：0.05—0.25MPa
浓水出水压力(COUT)： 0.02—0.2MPa
进水硬度：＜1.0ppm(以CaCO 计）(推荐0 5ppm以下）
进水有机物：TOC＜0.5ppm
进水硅：SiO2＜0.5ppm
进水总CO2：＜3ppm
进水颗粒度：＜1μm
四、设备特点
1: 整体化程度高 , 易于扩展 , 增加膜数量即可增加处理量。
2: 自动化程度高 , 遇故障立即自停 , 具有自动保护功能。
3: 膜组件为复合膜卷制而成 , 表现出更高的溶质分离率和透过速率。
4: 能耗低 , 水利用率高 , 运行成本低。
5: 结构合理 , 占地面积少。
6: 的膜保护系统 , 在设备关机 , 淡化水可自动将膜面污染物冲洗干净，延长膜寿命。
7 系统无易损部件 , 无须大量维修 , 运行长期有效。
五、工艺流程:
原水→原水加压泵→多介质过滤器→活性炭过滤器→软水器→精密过滤器→一反渗透→PH调节→中间水箱→第二反渗透(反渗透膜表面带正电荷)→纯化水箱→纯水泵→EDI系统→纯化水箱→纯水泵→紫外线杀菌器→微孔过滤器→用水点
六、适用行业：
1、超纯材料和超纯试剂的生产和清洗。
2、电子产品的生产和清洗。
3、电池产品的生产。
4、半导体产品的生产和清洗。
5、电路板的生产和清洗。
6、其他高科技精细产品的生产。
