使用须知:

(1)请参照相关法规、文献、MSDs等信息,理解并掌握好试剂的特性,再进行安全操作。

(2)通常购买试剂时一定要想到－－次性用完。若估算不足有剩余的话，更加注意其他保管和管理。

(3)万一-试剂操作者并非业技术人员。必须在业人士的指导监督下进行操作。对于使用后的废弃物,不要或者旧的试剂，应按照相关法律法规正当处理。

(4)购买后，请务必确认标签上的注意事项;做好预防颠倒,摔坏的措施和管理体制;在使用再次确认标签上的注意事项，做好必要的安全对策;对没有标明其危害特性、有害特性的，也要慎重地进行操作;必须带好防护用具，小心翼翼进行操作。

生化试剂的种类与等说明:

(1)免疫试剂包括抗体及抗血清、正常血清及补体、抗原、免疫组织化学研究用试剂、细胞培养用试剂、细胞分离试剂、凝胶内扩散法及电泳试剂等。

(2)基因工程用试剂包括基因表达与基因重组、人工合成蛋白、激素、核酸合成试剂、内切酶等。

(3)诱变剂和主要供测定工作场所与生活环境中的毒物质的致癌性与化学毒物的致突变性。

(4)工业用化学品包括试制开发的工业用化学品,有四千种以上,还在不断增加。

 生化试剂的不同别:

1.荧光:荧光IPLc是有梯度的并且是荧光控的，特别适合于用荧光1FPLC分析PAH:

2.合成純:适用于有机合成和预制的应用:

3.特純:适用于普通实验室工作,一般情况下符合大部分药典 (BP, usP,etc.)标准:

4.药典:纯度符合Pharmacopoei a的标准，如OF , BP, USP,PH EUR, DAB, DAC, JP,PR法郎);

5.分析纯:适用于分析、研究和质量质控等;

6.优纯:这一等同与大多数制造商的分析(A. R. ),试剂(R.G.);

7.光谱纯:有很高的紫外线通透性,适用于严格格的红外光谱测试:

8.分子生物学:这类产品保证无酶从而避免了分析过程干扰,同时这类产品有足够的透明度使之能用于分子生物学中的检测；

9.食品/ FCC:产品符合食品化学法典(FCC)规范和杂质含量限制:

10.工业纯:适用于不严格的实验室工作,如漂洗、消溶或用作生产中的原材料;

L-肉碱富马酸盐,90471-79-7高纯试剂又分成几大类:

? 普通离纯试剂

是指一些高纯单质金属、氧化物、金属盐类等,常用于原子能工业材料、电子工业材料、半导体基础材料等,金属单质的氧化物、用来配制标准溶液和作为标准物质,该类试剂常要求含量在 4N-6N 之间。

? 超净电子纯试剂

超净高纯试剂是集成电路( IC )制造工艺中的用化学品,用于硅片清洗、光刻、腐蚀工序中。对这种高纯试剂中可溶性杂质和固态微粒要求非常严格,为适应 IC 集成度不断提高的需求,上半导体工业协会( Semiconductor Industry Association )近来推出 Semic7( 适合 0.8-1.2 微米工艺技术 ) 和 Semic8( 适合于 0.2-0.6 微米工艺技术 )L-肉碱富马酸盐,90471-79-7 别的试剂质量标准。我国在原有 MOS 、 BV-I 试剂的基础上,又制定出 BV-II 和 BV-III 试剂标准(相当于 Semic7 )。我研究所也研制多种 MOS 、 BV-I  BV-II 和部分 BV-III 试剂,其颗粒度( 0.5 微粒颗粒)≤ 25-100 个∕ ml ,金属杂质总量≤ 10 -3 — 10 - 5 ﹪

? 光刻胶高纯试剂

光刻工艺是一种表面加工技术,在半导体电子器件和集成电路制造中占有重要地位。为在表面实现选择性腐蚀,采用一类具有抗蚀作用的感光树脂材料作为抗蚀涂层,称为抗蚀剂,国内通称光刻胶。按照溶解度的不同而将光刻胶分为“正性”光刻胶和“负性”光刻胶,按所用曝光光源和辐射光源的不同,L-肉碱富马酸盐,90471-79-7又可将其分为紫外、远紫外、电子束、 X 射线等光刻胶。

光刻胶是微细图形加工的一种关键试剂,要求水分低、金属杂质含量低(≤ 10 -6 )

? 磨抛光高纯试剂

是指用于硅单晶片表面的研磨和抛光的高纯度试剂。它又分磨粉(三氧化二铝)和磨液(水和油剂),能研磨表面达到微米加工精度。这类试剂要求颗粒粒度小(纳米),纯度高,金属杂质一般要求 2.0 × 10 -4 — 5 × 10 -5 ﹪

? 液晶高纯试剂

液晶是一类电子化学材料,是指在一定温度范围内呈现介于固相和液相之间的中间相的有机物。它既有液态的流动性也有晶态的各向异性,有时人称他为第四态。

液晶种类繁多,L-肉碱富马酸盐,90471-79-7用途广,景*的要属 TN( 低档 ) 、 STN (中高档)、 TFT (高档)型。 TN 、 STN 及 TFT 三种型号所组成的单体液晶,主要包括芳香酯类、联苯类、苯基环已烷类、铁电类以及含氟液晶品等五种,它们是当及后使用及发展的主要对象。这类高纯试剂要求含量高(≥ 99 ﹪),水分含量低(≤ 10 -6 ),金属杂质含量少(≤ 10 -6 )。