英文名称:Baicalin;Baicalein 7-O-glucuronide; 5,6-Dihydroxy-4-oxygen-2-phenyl-4H-1-benzopyran-7-beta-D-glucopyranose acid其他名称:黄芩甙;贝加灵CAS号:21967-41-9C21H18O11=446.36别:试剂含量:≥98.0%(UV)含量:80~90%(HPLC)性状(以下信息仅供参考):白色至黄色粉末或结晶。用途:本品仅供科研,不得用于其它用途保存:RT

黄芩苷,21967-41-9高纯试剂又分成几大类:

? 普通离纯试剂

是指一些高纯单质金属、氧化物、金属盐类等,常用于原子能工业材料、电子工业材料、半导体基础材料等,金属单质的氧化物、用来配制标准溶液和作为标准物质,该类试剂常要求含量在 4N-6N 之间。

? 超净电子纯试剂

超净高纯试剂是集成电路( IC )制造工艺中的用化学品,用于硅片清洗、光刻、腐蚀工序中。对这种高纯试剂中可溶性杂质和固态微粒要求非常严格,为适应 IC 集成度不断提高的需求,上半导体工业协会( Semiconductor Industry Association )近来推出 Semic7( 适合 0.8-1.2 微米工艺技术 ) 和 Semic8( 适合于 0.2-0.6 微米工艺技术 )黄芩苷,21967-41-9 别的试剂质量标准。我国在原有 MOS 、 BV-I 试剂的基础上,又制定出 BV-II 和 BV-III 试剂标准(相当于 Semic7 )。我研究所也研制多种 MOS 、 BV-I  BV-II 和部分 BV-III 试剂,其颗粒度( 0.5 微粒颗粒)≤ 25-100 个∕ ml ,金属杂质总量≤ 10 -3 — 10 - 5 ﹪

? 光刻胶高纯试剂

光刻工艺是一种表面加工技术,在半导体电子器件和集成电路制造中占有重要地位。为在表面实现选择性腐蚀,采用一类具有抗蚀作用的感光树脂材料作为抗蚀涂层,称为抗蚀剂,国内通称光刻胶。按照溶解度的不同而将光刻胶分为“正性”光刻胶和“负性”光刻胶,按所用曝光光源和辐射光源的不同,黄芩苷,21967-41-9又可将其分为紫外、远紫外、电子束、 X 射线等光刻胶。

光刻胶是微细图形加工的一种关键试剂,要求水分低、金属杂质含量低(≤ 10 -6 )

? 磨抛光高纯试剂

是指用于硅单晶片表面的研磨和抛光的高纯度试剂。它又分磨粉(三氧化二铝)和磨液(水和油剂),能研磨表面达到微米加工精度。这类试剂要求颗粒粒度小(纳米),纯度高,金属杂质一般要求 2.0 × 10 -4 — 5 × 10 -5 ﹪

? 液晶高纯试剂

液晶是一类电子化学材料,是指在一定温度范围内呈现介于固相和液相之间的中间相的有机物。它既有液态的流动性也有晶态的各向异性,有时人称他为第四态。

液晶种类繁多,黄芩苷,21967-41-9用途广,景*的要属 TN( 低档 ) 、 STN (中高档)、 TFT (高档)型。 TN 、 STN 及 TFT 三种型号所组成的单体液晶,主要包括芳香酯类、联苯类、苯基环已烷类、铁电类以及含氟液晶品等五种,它们是当及后使用及发展的主要对象。这类高纯试剂要求含量高(≥ 99 ﹪),水分含量低(≤ 10 -6 ),金属杂质含量少(≤ 10 -6 )。