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纳昇电子nanoupe—大面积高精度狭缝涂布机

点击次数:53发布时间:2023/7/18 16:52:16

纳昇电子nanoupe—大面积高精度狭缝涂布机

更新日期:2023/9/4 8:50:03

所 在 地:中国大陆

产品型号:COATER-M400

简单介绍:大面积高精度狭缝涂布机采用大理石模组,保证运行的平稳与精度;工作台面具备真空吸附功能,支持各种基材(刚性或柔韧性、玻璃、塑料、金属箔、硅片)上的原位功能层制备;集成化注射泵,狭缝涂布墨水用量低,减少浪费和污染;可按用户要求集成自动测距系统、CCD成像系统;适用于研发到小批量试制、中试放大过程中的涂布试验、墨水调试、工艺研究、小规模制样研发等。

优质供应

详细内容

【电源】:电压单相AC220V±10%(可定制110VAC),频率50Hz/60Hz,功率≤5KW
【气源】:0.5-0.8MPa压缩空气
【有效涂布区域】:<400*400m
【涂布平台尺寸】:500*500mm
【基材固定方式】:真空吸附
【涂布湿膜厚度】:5-200μm(视溶液性质和工艺参数而定)
【涂布干膜厚度】:0.05-20μm
【均匀性】:≤6%
【溶液粘度】:0-1000cps
【平台材质】:不锈钢板
【涂布速度】:0.01-200mm/s
【涂布定位精度】:0.03mm
【狭缝涂布头、唇口直线度】:4μm
【供料系统】:注射泵
【供墨速度】:0.01-10ml/s
【平台驱动方式】:直线电机驱动
【特点】:采用大理石模组,保证运行的平稳和精度;
                  工作台面具备真空吸附功能,支持各种基材(刚性或柔韧性、玻璃、塑料、金属箔、硅片)上的原位功能层制备;
                  集成化注射泵,狭缝涂布墨水用量低,减少浪费和污染;
                  可按用户要求集成自动测距系统、CCD成像系统;
                  适用于研发到小批量试制、中试放大过程中的涂布试验、墨水调试、工艺研究、小规模制样研发等。
【适用范围】:针对纳米及亚微米功能性涂层的涂布试验、墨水调试、工艺研究、小规模制样研发等;涉及行业包括水凝胶、液态金属、智能包装材料、光电材料、光刻胶、功能涂层、微电子及半导体封装等大面积涂布制备,以及氢燃料电池、电解水制氢、锂电池、异质结太阳能电池、薄膜太阳能电池、钙钛矿太阳能电池、有机太阳能电池、OLED、柔性穿戴器件、电子皮肤等器件的制备。
【亮点】:运行平稳、控制精度高;
                  适用小批量试制和中试放大过程。

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联系人:童思超

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企业档案

  • 会员类型:免费会员
  • 工商认证: 【未认证】
  • 最后认证时间:
  • 法人:
  • 注册号:
  • 企业类型:生产商
  • 注册资金:人民币万

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