x-ray荧光膜厚分析仪
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详细内容
X荧光金无损镀层测厚仪特点特点
1.上照式
2.高分辨率探测器
3.鼠标定位测试点
4.测试组件可升降
5.可视化操作
6良好的射线屛蔽
7.高格度移动平台
8.自动定位高度
9.超大样品腔
10 .小孔准直器
11.自动寻找光斑
12.测试防护
技术指标
X荧光金无损镀层测厚仪型号:Thick 800A
元素分析范围从硫(S)到铀(U)。
同时可以分析30种以上元素,五层镀层。
分析含量一般为ppm到99.9% 。
镀层厚度一般在50μm以内(每种材料有所不同)
任意多个可选择的分析和识别模型。
相互立的基体效应校正模型。
多变量非线性回收程序
度适应范围为15℃至30℃。
电源: 交流220V±5V, 建议配置交流净化稳压电源。
外观尺寸: 576(W)×495(D)×545(H) mm
样品室尺寸:500(W)×350(D)×140(H) mm
重量:90kg
镀层厚度检测仪产品特点
样品处理方法简单或无处理
可快速对样品做定性分析
对样品可做半定量或准定量分析
谱线峰背比高,分析灵敏度高
不破坏试样,无损分析
试样形态多样化(固体、液体、粉末等)
设备、维修、维护简单
其次,X-ray荧光膜厚分析仪具有广泛的功能和应用。先,它在半导体行业中扮演着重要的角色。在半导体工艺中,薄膜的厚度对器件的性能和稳定性起着决定性的影响。因此,利用X-ray荧光膜厚分析仪可以快速地评估薄膜的厚度,为芯片制造商提供关键数据支持。此外,X-ray荧光膜厚分析仪在涂层行业中也发挥着重要的作用。涂层的厚度直接关系到产品的质量和性能,通过该仪器的测量,可以实现对涂层厚度的精确控制。除此之外,X-ray荧光膜厚分析仪在材料科学、纳米技术、化学工程等域也得到广泛应用,为科研人员的工作提供了强有力的技术支撑。
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