﹡ 样品体积LxWxH：300 x ∞ x 150 mm 500 x ∞ x 48 mm
﹡ 样品尺寸 LxW：105 x 105 mm Ø 300 mm 500 x 500 mm
﹡ 接触角测量范围：0 to 180 °C，分辨率：+/- 0.1 °C
﹡ 表面张力测量范围：1x10-2 to 100 mN/m；分辨率：0.1 mN/m
﹡ 光学系统：7-fold Zoom；视野范围FOV 3.2 to 22.5 mm 1.6 to 11 mm diagonal；光漂离
补偿；聚焦模块；高性能的可变视野照明；自动偏离效正
﹡ 摄像系统：50 桢 360 or 1000 fp/s optional；Online max. 100 evaluations / second；
Video sequences duration depending on RAM；软件自动触发计算和摄像
﹡ 软件：6种不同的方法分析座滴形态，自动基线调整，接触角测量范围在 0 to 180 °C，可选
择曲面基线。垂滴方法计算液体的表面/界面张力，录像，程序设定，自动进样设定，通过
Fowkes,extended Fowkes, Wu, Zismann, Owens-Wendt-Rabel, van Oss & Good, Neumann等
方法计算固体的表面自由能，湿润性等…
﹡ 温度范围：-60 to 400 °C
﹡ 仪器尺寸 LxWxH：380 x 620 x 610 mm 380 x 954 x 610
﹡ 重量：25 to 45 kg
﹡ 电压：110 to 240 VAC

测量方法：
﹡ Sessile & Captive Drop Method staticdynamic
﹡ Tilting Drop Method
﹡ Sessile Drop Method

选件：
﹡ DS3201 - 手动直接进样用于十分困难测量样品
﹡ DS3210 - 软件控制的直接进样
﹡ DS3202 - The fastest solution for reproducible volumes: The manual direct jet
dosing system
﹡ DS3228 - PC控制的多滴定系统，*多可达8个进样头
﹡ TC40 - The peltier temperature chamber for highest demands. The KRÜSS peltier
chamber is characterized by very fast temperature changes, no
condensation problem at windows due to 2 separate innerouter
housingsmovable inner sample stage.
﹡ ST3270 - Both manualelectronic wafer stages are available. They can be
integrated in DSA100DSA100L.
﹡ TC21 - 大的温度控制工作台

﹡ 独特的液滴观测角的调正技术，随时可以观测液滴的形态，操作就象儿童游戏一样的简单。
﹡ 进样系统的微调功能可以仅仅调整进样器的位置。
﹡ 智能化的进样系统，样品更换更加简单，避免了样品间相互交叉污染的危险。
﹡ 创新的光学结构的设计，即使很大的样品也可以轻松地在标准样品台上测量。
﹡ 新型的照明系统消除所有杂散光的干扰。
﹡ 创新的软件设计支持用户在任何时间都可以运行事先设定好的程序或模块。
﹡ 个性化的样品台，随意调整，不同的加热/制冷工作台，可以满足不同条件的特殊样品的要求。
﹡ 新型的 Peltier 温控室， 自动温度调节快速，精确。
﹡ 照明系统，提供强的光能量，极低的热辐射。
﹡ 模块设计, 可以全手动或全自动调节固体样品的位置
﹡ 手动或自动测量多达8个样品
﹡ 使用DSA100L，使大的样品测量异常简单

应用：
﹡ 评价表面处理程度
﹡ 考察粘胶特性
﹡ 表面纯度考核
﹡ 纺织行业印染的化选择
﹡ 晶片及微电子产品的质量控制