•QIII+ SPD 表面粒子侦测机提供 0.3um sensitivity。
•应用于设备机台( PVD, CVD,.., Etch, Diffusion ) 
 chamber, load lock, slit valve, SMIF, HOUP 等等 PM
 后的验证及 Parts cleaning 洁净度验证可降低产品
 Defect 和 Test Wafer 的使用量。
•量测：0.3,0.5μm, 所需求的范围
•適合客戶群: 半導體黃光; 蝕刻製程; 零件清洗商;
 設備清潔維護; 光電廠; 玻璃基板廠..
•Capture filter 能收集 particles 经由 EDX 或 FTIR
 分析 particle 成分。