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光谱椭偏仪
点击次数：809发布时间：2012/4/26 17:39:20
更新日期：2012/4/26 17:39:20
所 在 地：美洲
产品型号：SE200
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优质供应
详细内容
产品指标：、
波长范围：250nm到1100 nm
光斑尺寸：1mm至5mm
样品尺寸：直径可达200mm
测量厚度范围：〜10μm
测量时间：约1秒/位置点
入射角范围：20到90度，5度间隔
重复性误差：小于1 Ǻ
应用领域
· 半导体制造（PR，Oxide, Nitride..）· 光学涂层，TiO2, SiO2, Ta2O5... .. · 液晶显示（ITO，PR，Cell gap... ..）· 薄膜晶体管TFT上的层堆叠· 医疗器械上的涂层· 用在MEMS/MOEMS领域的功能性薄膜· 非晶体，纳米材料和结晶薄膜· 薄金属膜 实现功能：
1 对于薄膜、涂层、大基底的光学常数（折射率n和消光系数k）
2 对于薄膜的非破坏性厚度测量。
3 对于各种薄膜中合金浓度的测定，例如SiGe合金中Ge的测定、AlGaN膜中Al的测定。
4 对于GaN、SiC、AlN、AlGaN等，它们带隙的测定。
5 在低介电常数下测定薄膜的孔隙率。
6 测定纳米复合材料中所含每种成分的体积比含量。
7 可以测定多层堆叠或者像量子阱结构的周期性结构中的每一层的物理厚度和光学特性。
8 对薄膜在密度或合金的浓度上的不均匀性进行分析
9 分析高介电常数薄膜的光学特性
10金属薄膜、金属化合物（例如WN、TiN、TaN等）、 掺杂半导体epi层（同时也决定了厚度）及其他的诸如ITO薄膜等复合氧化物的电导率进行无损检测。
11掺杂半导体掺杂浓度的无损检测
