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Sutter BV-10磨针仪 锻针仪
点击次数:128 发布时间:2023/6/17 11:24:41
(BV-10-D 与可选的 40 倍体视显微镜一起显示)
Sutter BV-10 磨针仪/锻针仪
BV-10 优雅且易于使用,可对 0.1 至 100 µm 之间的微量移液器吸头进行精 确斜切。独特的研磨盘驱动系统无振动,可更好地控制坡口加工过程。使用 Brown 和 Flaming,《科学》,1974 年 8 月,第 185.
细胞内记录电极可以受益于斜切,因为:- 通过在电极上形成尖点来减小尖端直径
- 由于内腔的横截面积较大,电极的电阻降低。
基本的斜切系统由一个固定的基座组成,光学平坦到半波 (250 nm),表面安装在一个沉重的基板上。这用作磨料涂层玻璃磨盘的轴承,该磨盘也是平坦的半波。平面研磨板通过磁场耦合到低振动、低速电机,以提供无摆动的平面研磨表面。研磨板采用专有工艺制造,可确保一致的研磨涂层。
一个 2 轴显微操纵器将移液器固定成斜面,并允许在研磨表面上进行可控的前进。斜角和前进速度可调。带有鹅颈管的 LED 灯通过为研磨板和移液器提供清晰的照明来增强斜切操作。
基本系统配有两个您选择的研磨板、一个带支架的灯芯(用于湿式斜切)、底座油、脱脂液和手册。
有两个选项可用于监控倒角过程,一个 40X 体视显微镜和一个电极阻抗计. 根据您的研究应用,这些选项中的一个或两个可能是可取的。对于所有微量移液器应用,摆动式显微镜可增强您对移液器在研磨板上前进的控制,并允许观察斜角操作(示波器分辨率不足以查看实际斜角,除非是非常大的吸头)。对于微电极应用,阻抗计用于在斜切操作期间监测尖端电阻。该仪表采用模拟设计,提供三个电阻范围(0-10、0-100、0-500 MΩ)。测量频率为 12 Hz,以* 大限度地减少电容对测量阻抗的影响,并提供接近真实的直流电阻值。快速滚降用于减少 50/60 Hz 干扰,
常见应用 BV-10
- 脑深部注射
- ES 细胞和 ICSI 程序
- 线虫注射
- 鱼和昆虫卵注射
- 特征
- 无振动、磁耦合斜面
- 研磨表面光学平坦至半波 (250 nm)
- 市场上*精细的研磨表面
- 同步时钟电机确保转速稳定
- 7 磅钢底板增加了额外的阻尼
- 一体式LED灯
- 坚固的显微操纵器控制斜角和前进
原创作者:深圳奥德赛创精密仪器有限公司