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Sutter BV-10磨针仪 锻针仪

点击次数:128 发布时间:2023/6/17 11:24:41

 

(BV-10-D 与可选的 40 倍体视显微镜一起显示)


Sutter BV-10 磨针仪/锻针仪

BV-10 优雅且易于使用,可对 0.1 至 100 µm 之间的微量移液器吸头进行精 确斜切。独特的研磨盘驱动系统无振动,可更好地控制坡口加工过程。使用 Brown 和 Flaming,《科学》,1974 年 8 月,第 185.

细胞内记录电极可以受益于斜切,因为:
  • 通过在电极上形成尖点来减小尖端直径
  • 由于内腔的横截面积较大,电极的电阻降低。
这极大地促进了穿透和保持非常小或困难的细胞。显微注射针也受益于斜面,它可以促进以*小损伤进入细胞,同时增强材料通过针的流动。

基本的斜切系统由一个固定的基座组成,光学平坦到半波 (250 nm),表面安装在一个沉重的基板上。这用作磨料涂层玻璃磨盘的轴承,该磨盘也是平坦的半波。平面研磨板通过磁场耦合到低振动、低速电机,以提供无摆动的平面研磨表面。研磨板采用专有工艺制造,可确保一致的研磨涂层。

一个 2 轴显微操纵器将移液器固定成斜面,并允许在研磨表面上进行可控的前进。斜角和前进速度可调。带有鹅颈管的 LED 灯通过为研磨板和移液器提供清晰的照明来增强斜切操作。

基本系统配有两个您选择的研磨板、一个带支架的灯芯(用于湿式斜切)、底座油、脱脂液和手册。

有两个选项可用于监控倒角过程,一个 40X 体视显微镜和一个电极阻抗计根据您的研究应用,这些选项中的一个或两个可能是可取的。对于所有微量移液器应用,摆动式显微镜可增强您对移液器在研磨板上前进的控制,并允许观察斜角操作(示波器分辨率不足以查看实际斜角,除非是非常大的吸头)。对于微电极应用,阻抗计用于在斜切操作期间监测尖端电阻。该仪表采用模拟设计,提供三个电阻范围(0-10、0-100、0-500 MΩ)。测量频率为 12 Hz,以* 大限度地减少电容对测量阻抗的影响,并提供接近真实的直流电阻值。快速滚降用于减少 50/60 Hz 干扰,

常见应用 BV-10

  • 脑深部注射
  • ES 细胞和 ICSI 程序
  • 线虫注射
  • 鱼和昆虫卵注射
 
    特征
  • 无振动、磁耦合斜面
  • 研磨表面光学平坦至半波 (250 nm)
  • 市场上*精细的研磨表面
  • 同步时钟电机确保转速稳定
  • 7 磅钢底板增加了额外的阻尼
  • 一体式LED灯
  • 坚固的显微操纵器控制斜角和前进

原创作者:深圳奥德赛创精密仪器有限公司

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