高真空膜渗透设备
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详细内容
该高真空膜渗透装置内部阀控部件全部采用日本进口CKD电磁阀程序控制, 该装置结构布局合理,操作便捷, 可实现膜渗透实验的稳定进行。该设备工作温度室温8~60℃,工作压力为0~1Mpa, 真空度可低至3 Pa。设备通讯模块皆采用rs485通讯连接, 采集数据稳定,可实验自动循环抽真空和手动抽真空等操作。 工作温度:室温 8~60℃
真空度:3 Pa
使用压力:0~1Mpa
设备可用于测试0-10mpa压力范围内的动态多元材料吸附测试;设备安装稳定的背压阀及气体高压仓,用于快速稳定的实现系统压力稳定及气体流速稳定。
该高真空膜渗透装置内部阀控部件全部采用日本进口CKD电磁阀程序控制, 该装置结构布局合理,操作便捷, 可实现膜渗透实验的稳定进行。该设备工作温度室温8~60℃,工作压力为0~1Mpa, 真空度可低至3 Pa。设备通讯模块皆采用rs485通讯连接, 采集数据稳定,可实验自动循环抽真空和手动抽真空等操作。 工作温度:室温 8~60℃
真空度:3 Pa
使用压力:0~1Mpa
设备可用于测试0-10mpa压力范围内的动态多元材料吸附测试;设备安装稳定的背压阀及气体高压仓,用于快速稳定的实现系统压力稳定及气体流速稳定。
该高真空膜渗透装置内部阀控部件全部采用日本进口CKD电磁阀程序控制, 该装置结构布局合理,操作便捷, 可实现膜渗透实验的稳定进行。该设备工作温度室温8~60℃,工作压力为0~1Mpa, 真空度可低至3 Pa。设备通讯模块皆采用rs485通讯连接, 采集数据稳定,可实验自动循环抽真空和手动抽真空等操作。 工作温度:室温 8~60℃
真空度:3 Pa
使用压力:0~1Mpa
设备可用于测试0-10mpa压力范围内的动态多元材料吸附测试;设备安装稳定的背压阀及气体高压仓,用于快速稳定的实现系统压力稳定及气体流速稳定。
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