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产品展示

RNase&DNase清除剂

点击次数:182发布时间:2011/12/20 10:22:40

RNase&DNase清除剂

更新日期:2012/4/11 11:41:51

所 在 地:中国大陆

产品型号:

简单介绍:RNase&DNase清除剂/Rnase&Dnase awayBR200毫升Amresco

优质供应

详细内容

RNase&DNase清除剂欢迎来电咨询其他产品供应信息。
本公司供应的生化试剂主要有:测试盒类、培养基类、抗体类、表面活性剂、缓冲剂类、分离材料及耗材、植物激素及核酸类、碳水化合物类、色素类、维生素类、抗生素类、酶类、氨基酸类、其他荧光试剂、优势产品。
氧化型辅酶Ⅰ/β-烟酰胺腺嘌呤二核苷酸/二磷酸吡啶核苷酸/烟酰胺腺嘌呤双核苷酸/β-NAD/β-DPN BR,98% 1克 Amresco 53-84-9
10克 Amresco
25克 Amresco
100克 Amresco
还原辅酶Ⅰ二钠盐/还原型辅酶Ⅰ二钠盐//β-烟酰胺腺嘌呤二核苷酸二钠/硝酸还原酶/硝基乙酰胺维生素B4/烟酰胺腺嘌呤二核苷酸二钠/β-NADH/β-DPNH BR,98% 250毫克 Amresco 606-68-8
1克 Amresco
5克 Amresco
BR,92%,三水物 250毫克 Amersco
1克 Amersco
5克 Amersco
缓冲剂分类:(1)氧缓冲剂是包括水在内的固体组合,在固定温度和总压条件下能产生恒定的氧逸度,用于H-O体系.(2)石墨缓冲剂在一定温度和总压条件下,石墨的存在确定了体系的各种气相成分和逸度,用于C-O体系;(3)氧和石墨联合缓冲剂用于C-O-H体系;(4)酸碱缓冲剂:fHZ由外部提供,RNase&DNase清除剂纯固相银和纯液相氯化银在一定的温度和压力下平衡,即可产生固定的。fHCl,用于H-O-Cl体系。缓冲剂在电镀中能抑制电镀液pH值的变化。如镀镍溶液中加入硼酸,其缓冲范围与电镀液的pH值5~6接近,因而它能地抑制电镀过程中引起的阴极附近溶液pH值的变化。此外,在其他一些电镀溶液中,铵盐、醋酸盐、柠檬酸盐等也得到应用。
还原辅酶Ⅰ抑制剂/NADH Inhibitor BR,80u/mg 10毫克 Amresco
氧化型辅酶Ⅱ/β-烟酰胺腺嘌呤二核苷酸磷酸/烟酰胺腺嘌呤双核苷酸磷酸盐/三磷酸吡啶核苷酸/β-NADP/TPN BR,90%,自由酸,具刺激性 100毫克 Amresco 53-59-8
BR,97%,二钠,具刺激性 100毫克 Roche
500毫克 Roche
1克 Roche
试剂级,97%,二钠,三水物,具刺激性 1克 Amersco0760
还原辅酶Ⅱ四钠盐/烟酰胺腺嘌呤二核苷酸磷酸四钠盐/烟酰胺腺嘌呤双核苷酸磷酸四钠盐/β-NADPH/TPNH2 Na4 BR,98% 25毫克 Roche 42934-87-2
100毫克 Roche
1克 Roche原装
高纯,95% 25毫克 SigmaN1630原装
RNase&DNase清除剂其他产品信息供应:
芒果苷
新芒果苷
DL-薄荷醇
酪醇

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  • 注册号:****
  • 企业类型:生产商
  • 注册资金:人民币**万

测定抗原、抗体Elisa试剂盒

生物学研究生化试剂

标准品类

CELL细胞

与相应抗原结合的抗体

对照品

细胞株

菌株

人系统细胞株

动物细胞

培养基组分

特殊培养基

ELISA试剂盒

培养基

动物细胞株

对照品类

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