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脉冲激光沉积系统 （PLD）
TSST脉冲激光沉积系统配置：
- 生长室，进样室可选
- 两种靶材台可选
- 三种加热器可选，加热温度1200℃
- 高压RHEED，工作气压可达100Pa
- 可预留法兰，用于LEED，K-Cell等
- 可选项：臭氧发生器，离子源，掩膜系统等
TSST脉冲激光沉积系统特点及优势：
- 产品基于荷兰Twente大学Prof. Blank和Dr. Rijnders研究组的原始设计，在提供产品的同时，更能提供专业的技术支持；
- 始终考虑到客户的需求，为其定制产品，具有很大的灵活性；
- 靶材台同时可以安装5个靶，并且5个靶可以同时更换，节省换靶时间；
- TSST公司是高压RHEED的发明人，其在RHEED结果的分析上造诣很深，可以为用户提供结果分析建议；
- 用户可以通过TSST公司与荷兰Twente大学进行学术交流，包括访问甚至交换学生等。
更多脉冲激光沉积系统信息，请查看：http://www.germantech.com.cn/new/cplook.asp?id=392
