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微波等离子体系统（去胶机）
点击次数：320发布时间：2020/4/1 9:58:35
更新日期：2020/4/1 9:58:35
所 在 地：
产品型号：Q150
优质供应
详细内容
微波等离子体系统（去胶机）：
用途：
Removal of Photoresist ( after high-dose implant)（高剂量注入后）光刻胶的去除
After or before wet or dry etching process用于湿法或干法刻蚀工艺前后
SU 8 and other resists based on epoxy SU-8和其它环氧基光胶的去除
Sacrificial layers in MEMS fabrication微电子机械系统加工中牺牲层去除
Desorption of chemical residues去除化学残余物
Descum Process清除浮渣工艺
应用领域：
Photoresist and SU-8 Processing |  |
Plasma Pre-Treatment | |
Edge Isolation and Texturing | |
Substrate Cleaning and Pre-Treatment |
优势：
Avoids resist popping after high-dose implant预处理可避免光刻胶在高剂量离子注入后破裂
Soft removal of crust硬胶的轻柔去除
Maximum temperature of 230°C温度为230摄氏度
Slow temperature ramp – up温升慢
High density of radicals高密度激发态原子团
Shorter Process time工艺时间短
Lowest self bias voltage, low damage的自偏压，低损伤
Q150 | Q235 | Q240 | |
样片尺寸 | 5" | 6" | 4", 5", 6", 8" |
腔室尺寸（mm） | φ150 x 260depth | φ235 x 260depth | φ240x 460depth |
处理能力 | 25x 5" | 25x 6" | 50x 6", 8" |
工艺压力(Pascal) | 1-100 | 1-100 | 1-100 |
频率(GHz) | 2.45 | 2.45 | 2.45 |
功率(W) | 100-600 | 100-600 | 100-1200 |
控制方式 | 全自动运行 | 全自动运行 | 全自动运行 |
外形尺寸 | 500x370x550 | 590x460x550 | 760x775x775 |
主机重量（kg） | 40 | 70 | 120 |
泵重量（kg） | 32 | 32 | 83 |
总重量（kg） | 72 | 102 | 203 |
总功率 (kW) | 2.2 | 2.6 | 4.2 |
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