热蒸发镀膜仪

ETD-800C型热蒸发镀膜仪把待镀膜的基片或工件置于真空室内，通过对镀膜材料加热使其蒸发气化而沉积与基体或工件表面并形成薄膜或涂层的工艺过程。

产品型号：ETD-800C  原产地：  价格：面议

小型离子溅射仪ETD-900

ETD-900 型离子溅射仪外观亮丽，做工精致，旋钮式定时器档位清晰，手感舒适；特殊定制的真空指示和电流指示表头沉稳大气，具有欧洲典雅风范；前面板上的微泄漏气阀门可以连接多种气体；调节溅射电流大小，成膜速度快，质量好；功能控制和定时皆由CPU调度，使用范围广。

产品型号：ETD-900   原产地：  价格：面议

ETD-800型全自动离子溅射仪

ETD-800小型离子溅射仪是专门为扫描电子显微镜用户设计的全自动镀膜设备；操作简便，放入样品后可一键搞定；数字式计数器满足精准定时要求，特别适用对膜颗粒大小要求高的场发射扫描电子显微镜；膜厚均匀稳定

产品型号：ETD-800  原产地：  价格：面议

ETD-900C型溅射蒸碳仪

是北京意力博通技术发展有限公司针对SEM用户研制生产的一款既能溅射金、银、铜、铂又能蒸发碳膜的一机多用设备。此款机器具有小巧方便操作简单成膜效果好之优点，可以满足广大SEM用户随时样品制备的需要。

产品型号：ETD-900C  原产地：  价格：面议

ETD-900M磁控溅射仪

做工精致磁控溅射是物理气相沉积的一种。一般的溅射法可被用于制备金属、半导体、绝缘体等多材料，且具有设备简单、易于控制、镀膜面积大和附着力强等优点，磁控溅射法更是实现了高速、低温、低损伤。因为是在低气压下进行高速溅射，必须有效地提高气体的离化率。磁控溅射通过在靶阴极表面引入磁场，利用磁场对带电粒子的约束来提高等离子体密度以增加溅射率。

产品型号：ETD-900M  原产地：  价格：面议

ETD-3000离子溅射仪

工作时结合内部自动控制电路很容易控制真空室压强、电离电流及选择所需的电离气体，获得最佳镀膜效果。 配有高位定性的飞跃真空泵

产品型号：ETD-3000  原产地：  价格：面议

ETD-2000小型离子溅射仪

采用真空自动控制和真空保护电路，使操作和应用更加安全可靠。为扩大应用领域，可同时手动调整溅射仪的电离电流或手动调整其真空微调针阀，改变电离室的压强，获得最佳的喷镀效果。独特的真空橡胶压边密封结构，保证长期使用不会使钟罩边缘出现毛边而影响真空室中的真空度，陶瓷密封高压插头经久耐用。

产品型号：ETD-2000  原产地：  价格：面议

ETD-2000C 溅射蒸碳仪

ETD-2000离子溅射仪基础上，增加了热蒸发附件，可以蒸发碳丝，具有溅射和蒸发两种功能。因此扩展了应用范围，特别适用于扫描电镜实验室样品制备。

产品型号：ETD-2000C  原产地：  价格：面议

SD-160离子溅射仪

SD-160型离子溅射仪是采用二级（DC）160.jpg直流溅射原理设计而成的离子溅射镀膜设备。二极（DC）直流溅射是一种最简单、可靠、经济的镀膜技术，是许多厂商提供的离子溅射仪的基础。除了具有通常的基本结构外，它的特点是：配置有样品溅室，真空显示表、溅射电流指示表、溅射电流调整控制器、微型真空阀、定时器。工作时结合内部自动控制电路很容易控制真空室压强、电离电流及选择所需的电离气体，获得最佳镀膜效果。特殊设计的钟罩边缘橡胶密封圈，可保证长期使用不会出现影响样品溅射室真空度的玻璃钟罩“崩边”现象；陶瓷密封高压头比通常采用的橡胶密封更经久耐用。根据电场中气体电离特性，采用大容量样品溅射真空室和相应面积溅射靶，使溅射镀层更均匀洁净。此外SD-160应用高稳定性、高灵敏 度电磁阀，采用双气路自动控制系统，更 易实现对样品的保护以及对样品成膜品质 的保证。特别适用于电镜实验室的SEM样品制备和新材料研究的电极制作。

产品型号：SD-160  原产地：  价格：面议

ETD-650MS磁控溅射仪

是我公司研制开发的一款经济实用的袖珍型高真空磁控溅射设备，更适合各科研及教育机构实验室的中试验需求。系统主要由溅射真空室、永磁磁控溅射靶（强/弱磁靶）、光纤旋转台（定制）、直流电源、工作气路、抽气系统、循环水系统、膜厚监测系统、真空测量、电控系统及安装机台等部分组成。

产品型号：ETD-650MS  原产地：  价格：面议

ETD-2000Ⅲ 离子溅射仪

是依据二极（DC）直流溅射原理设计而成的最简单、可靠、经济的镀膜设备。本机特别之处是在一个真空室内安装了三个靶，旋转样品台可依次在同一样品上涂覆三种材料。因此，适用于实验室各种复合膜样品的制备，以及非导体材料实验电极的制作。

产品型号：ETD-2000Ⅲ  原产地：  价格：面议

ETD-2000MH微型高真空磁控溅射仪

磁控溅射的工作原理是指电子在电场E的作用下，在飞向基片过程中与氩原子发生碰撞，使其电离产生出Ar正离子和新的电子；新电子飞向基片，Ar离子在电场作用下加速飞向阴极靶，并以高能量轰击靶表面，使靶材发生溅射。

产品型号：ETD-2000MH  原产地：  价格：面议

ETD-80AF小型热蒸发镀膜仪

ETD-80AF型热蒸发镀膜仪把待镀膜的基片或工件置于真空室内，通过对镀膜材料加热使其蒸发气化而沉积与基体或工件表面并形成薄膜或涂层的工艺过程。

产品型号：ETD-80AF  原产地：  价格：面议

样品台

离子溅射仪 扫描电镜样品台定制

产品型号：ETD-SSS  原产地：  价格：面议