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气氛型可调高温加热装置

价格:¥电议

品牌名称:北京华测(进口品牌)型号:HCTD-HCHD 原产地:中国大陆 发布时间:2020/3/4 10:33:43更新时间:2024/12/13 13:07:38

产品摘要:气氛型可调高温加热装置气氛可调节近红外高温加热装置HCTD系列/HCHD系列可以进行太阳能电池/化合物半导体等的工艺开发和各种应用程序的安装。此系列是将红外线反射炉和温度控制器组合,并且还将石英的热处理室紧凑地装备起来的高速加热冷却装置。气氛型可调高温加热装置也可以根据用户的需进行定制。

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附件及配件

详细内容

气氛型可调高温加热装置

 

 

 

 

产品介绍
 

中小型高温炉是工业生产与科研中常用的设备。目的高温炉基本均采用硅钼棒、硅碳棒作为加热体,升温速率慢、无法实现变温环境模拟,且不同气氛环境以共用。在研的工业与科研特种红外高温炉,具有快速升温、变温模拟、定制红外加热波段、红外反射涂层保温、气氛可调(一台设备同时实现大气/真空/惰性气体等)的优点。目美日等国已发展出部分相关的用高温炉,我国仍是空白。

        气氛可调节近红外高温加热装置HCTD系列/HCHD系列可以进行太阳能电池/化合物半导体等的工艺开发和各种应用程序的安装。此系列是将红外线反射炉和温度控制器组合,并且还将石英的热处理室紧凑地装备起来的高速加热冷却装置。也可以根据用户的需进行定制。

 

更多应用

 

太阳能电池基板的热处理

在气氛环境下的热处理

各种材料的基础研究气氛退火热处理

模拟器渐变热处理

热循环热冲击试验研究

半导体材料的烧结和工艺退火炉

 

特点
 

设定从高速加热到低速加热的广泛条件

多步骤及循环加热利用气体冷却机构的高速气体淬火

可以简单地从电脑上输入温度程序设定和外部信号

另外,可以在电脑上显示加蒸中的温度数据

 

型号

HCTD-1400

HCHD-1200A

HCHD-1200B

加热方式

近红外椭圆反射

红外抛物面反射聚光

 

温度范围

RT~1400℃

RT~1200℃

 

热处理区

φ15mm*长100mm

φ50mm*长100mm

φ50mm*长150mm

均热区(加热时)

φ10mm*长80mm

φ40mm*长80mm

φ40mm*长120mm

冷却方式

从腔内石英喷嘴喷出气体的方式

 

 




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