溅射蒸碳仪 ETD-2000C
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详细内容
- 产介绍:溅射蒸碳仪 ETD-2000C
药(械)准字:无需注册证号
性能特点如下:ETD-2000C 溅射蒸碳仪是依据二(DC)直流溅射原理设计而成的,*简单、可靠、经济的镀膜设备。同时增加了热蒸发附件,具有溅射和蒸发两种功能。
满足电镜实验室的扫描电子显微镜(SEM)样制备和非导体材料实验电制作。
在 ETD-2000/3000 离子溅射仪基础上,增加了热蒸发附件,可以蒸发碳丝,具有溅射和蒸发两种功能。因此扩展了应用范围,特别适用于扫描电镜实验室样制备。
技术参数:*配置参数如下:仪器尺寸 : 400mm×300mm×400mm(L×W×H)
空样室: 硼硅酸盐玻璃 160mm×110mm(D×H)
靶(上部电): 50mm×0.1mm(D×H)
样台: 50mm (D)
操作空: 4×10-1mbar至2×10-2mbar
工作电压: 0-1600V (DC)可调
溅射电流: 0-50mA
溅射定时: 1-9999S
蒸碳电流 0-10A(AC)
空泵: 4升两机械旋转泵(限空2×10-2mbar)
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