膜厚仪采用二次荧光法：它的原理是物质经X射线或粒子射线照射后，由于吸收多余的能量而变成不稳定的状态。从不稳定状态要回到稳定状态，此物质必需将多余的能量释放出来，而此时是以荧光或光的形态被释放出来。荧光X射线镀层厚度测量仪或成分分析仪的原理就是测量这被释放出来的荧光的能量及强度，来进行定性和定量分析。
在生产过程中如何选择膜厚仪呢?
    首先取决于你所测产品的结构.如果只是简单的涂层,铜箔使用普通的膜厚仪就可以解决了.如：铜箔测厚仪,涂层测厚仪.
如果测电镀层的厚度,而且具有几层镀层,那么就要使用x-射线膜厚仪.单镀层厚度大于0.5um的还可以采用金相法观察.
 

原创作者：金湖美安特自动化仪表有限公司