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技术文章

样品预处理时的脱气温度怎么设置才合适

点击次数:9264 发布时间:2016/5/31 17:15:38

如何选择样品的脱气温度?  
系统温度越高,分子扩散运动越快,因此脱气效果越好。
通常仪器配备的脱气站加热温度可达 400 ℃, 但是选择脱气温度的首要原则是不破坏样品结构。
一般来说,氧化铝、二氧化硅这一类氧化物的安全脱气温度可达 350℃;大部分碳材料和碳酸钙的
安全脱气温度在 300 ℃左右;而水合物则需要低得多的脱气温度。对于有机化合物,也可以通过脱
气站进行预处理,但是大部分有机化合物的软化温度和玻璃化温度较低,因此必须提前加以确认。
例如在医药领域常用的硬脂酸镁,美国药典(USP)规定的脱气温度为 40 ℃。
如果脱气温度设置过高,会导致样品结构的不可逆变化,例如烧结会降低样品的比表面积,分
解会提高样品的比表面积。 但是如果为了保险, 脱气温度设置过低, 就可能使样品表面处理不完全,
导致分析结果偏小。
因此在不确定脱气温度的情况下,建议使用化学手册,如 theHandbookofChemistryand
Physics(CRC,BocaRaton,Florida), 以及各标准组织发布的标准方法, 如 ASTM, 作为相关参考。
脱气温度的选择不能高于固体的熔点或玻璃的相变点, 建议不要超过熔点温度的一半。当然,如果
条件许可,使用热分析仪能够*精确地得到适合的脱气温度。一般而言,脱气温度应当是热重曲线
上平台段的温度。 

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