扫描热学显微镜操作模式：1.合理的操作模式：

　　a. 扩展电阻成像：这个模式在表征半导体的应用中非常有用，因为在该模式下，我们可以利用W2C 或TiO涂层的硅悬臂来测得样品上某一点的导电率，然后和该点的表明形貌进行比较。

　　b. 粘附力模式：在扫描过程中，可以同时得到力-距离曲线和力的值。

　　c. 剪切力模式：可以用来实现SNOW系统。

　　d. SKM对半导体表面成分分析十分有用。

　　e. RM和电压刻蚀：利用这两个模式可以在纳米尺度实现机械和电压表面修饰。

　　2.集成测量头

　　在一次扫描过程中，可以同时得到4种不同的信息。

　　扫描器NT-MDT提供一套用于校正的标准光栅(6片)，用其进行扫描器的校正和针尖质量的控制。。

　　样品大小大样品也可以进行测量。

　　光学观测系统多样的光学观测系统配置可以*客户的需求。

　　针尖与样品的驱近1. 驱近系统的机械设计可使得经过几次驱近之后仍然能获得相同的检测区域。扫描位移大约为500nm，这个特点可以让您在几周内仍然能够研究相同的样品区域。

　　2. 在完成驱近之后，可以对所要检测的区域进行自动扫描，因此实验人员只需很短的时间便可以在SPM上获得检测结果。

　　3. 允许手动驱近。

　　电子学每个轴(X,Y和Z)通过2个16位DAC来实现22位的扫描精度，再加上低的系统噪音，所以Solver使用50mm的扫描器也能实现原子分辨率。

　　扫描热学显微镜产品来源：

　　http://www.natengyiqi.com/ParentList-2349112.html

　　https://www.chem17.com/st125795/list_2349112.html

原创作者：苏州国朗设备制造有限公司