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亚洁提供专业的电子、光学纯水设备、超纯水设备、纯水闭路系统和废水处理及回用等一系列设备， 并随着微电子工业飞速发展，对水质要求也越来越高，不断革新工艺与设备，满足微电子工业对水质极限的挑战。
亚洁丰富的系统控制、系统设计和制造经验，可针对不同客户的具体要求来设计。纯水系统及控制部分，即可安装在现场，也可使用PLC技术将信号送到中央控制室DCS负责现场监控，长期致力于纯水处理技术的研究与开发，能为半导体工业、线路板工业与液晶显示器工业等提供高质量的水处理设备，从而降低废品率，增加生产能力。 |
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| 电子、光学纯水、超纯水设备出水标准：
| 应用范围：
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- 中国电子行业超纯水国家标准GB/T11446.1-1997
- 实验室用水国家标准GB6682-2008
- 美国半导体工业用纯水指标
- 美国试验级用水标准ASTM/NCCLS
| - 半导体材料、器件、印刷电路板和集成电路
- 超纯材料和超纯化学试剂
- LCD、EL、PDP、TFT、玻壳、显像管
- 超纯材料和超纯化学试剂、光导纤维、光盘
- 实验室和中试车间
- 汽车、家电表面抛光处理
- 其他高科技精微产品
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| 设备规格：
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- 成套设备出水量：0.5T/H-120T/H
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| 典型工艺流程：
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| 二级反渗透（RO2）： |
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- 原水－－－－预处理－－－－一级反渗透－－－－二级反渗透－－－－纯水箱－－－－0.22μm精密过滤器－－－－纯化水
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| 一级反渗透+混床树脂（RO+MB）： |
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- 原水－－－－预处理－－－－反渗透装置－－－－混床树脂－－－－精制混床树脂－－－－后处理－－－－超纯水
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| 一级反渗透+EDI装置（RO+EDI） |
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- 原水－－－－预处理－－－－反渗透装置－－－－EDI装置－－－－后处理－－－－超纯水
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| 一级反渗透+EDI装置+混床树脂（RO+EDI+MB） |
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- 原水－－－－预处理－－－－反渗透装置－－－－EDI装置－－－－精制混床树脂－－－－后处理－－－－超纯水
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