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Aridus II膜去溶雾化系统

点击次数:2285发布时间:2009/11/2 0:00:00

Aridus II膜去溶雾化系统

更新日期:2012/3/8 16:46:51

所 在 地:美国

产品型号:Aridus II

简单介绍:Aridus II膜去溶雾化系统是为各种ICP-MS专门研制的、专业进样系统附件,具有如下特性: 提高ICP-MS的灵敏度10倍以上 显著降低氧化物和氢化物水平 使ICP-MS可以直接分析有机溶剂样品(如甲醇、乙醇等) 大大改善信号的稳定性

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详细内容

Aridus II膜去溶雾化系统

Aridus II膜去溶雾化系统是为各种ICP-MS专门研制的、专业进样系统附件,具有如下特性:

  • 提高ICP-MS的灵敏度10倍以上
  • 显著降低氧化物和氢化物水平
  • 使ICP-MS可以直接分析有机溶剂样品(如甲醇、乙醇等)
  • 大大改善信号的稳定性

Aridus II膜去溶雾化系统采用的低流量、Aspire微量雾化器,只需1mL的样品就能分析所有的元素。同时Aridus II进样系统全部采用PFA惰性材料,可应用于含HF酸的样品。独特的废液反抽技术进一步提高了稳定性。
 

 
Aridus II的工作原理:

样品经雾化器雾化成气溶胶后进入120℃的雾化室,样品气溶胶保持在蒸汽状态。从雾化室出来的样品气溶胶进入加热的“隔膜去溶”装置,利用“膜渗透”技术,分离样品气溶胶中的溶剂,利用一股反向的氩“穿透气”带走从膜渗透出来的溶剂蒸汽。从而使进入ICP的样品气几乎不存在溶剂部分,大大提高了分析的灵敏度、减少溶剂所带来的氧化物、氢化物干扰和溶剂对ICP的影响。

优点:
显著减小ICP-MS的干扰:
Aridus II膜去溶雾化系统能去除样品溶剂蒸汽,显著地减少诸如来自水中的氧化物、氢化物的干扰,右图比较了标准气动雾化器与Aridus系统的CeO/Ce 比率,该CeO/Ce比率从3% 减少为0.03%。其他水基的干扰ArH +(39)、CO2+(44)、ArO+(56)有明显的减少,从而使Li、Na、Mg、K、Ca、Fe的检出限得到明显改善。
配备Aridus II的ICP-MS检出限:(在非冷焰的条件下,ELAN6000型ICP-MS)

Element

m/z

Detection Limit (ng/L)

Element

m/z

Detection Limit (ng/L)

Li

7

0.4

K

39

8

Na

23

15

Ca

44

300

Mg

24

6

Fe

56

10

 

的信号稳定性:

Aridus II的7小时信号稳定性:RSD<1%(在100%的甲醇溶液中加1mg/L的标准)

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  • 会员类型:免费会员
  • 工商认证: 【未认证】
  • 最后认证时间:
  • 法人:
  • 注册号:
  • 企业类型:经销商
  • 注册资金:人民币万

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