仪器信息网22日消息：

奥维尔多大学光谱分析实验室的A. Sanz Medel与R.Pereiro教授等材料科学家涉及的研究领域非常广泛，包括太阳能光伏电池、玻璃镀层等。2014年9月，他们在实验室中成功安装了全球首台等离子体分析飞行时间质谱仪（PP-TOFMS），希望通过它来进行基材和镀层的污染及稀土元素分析。

PP-TOFMS是HORIBA Scientific （Jobin Yvon光谱技术） 在 2012年推出的一款产品，它诞生于欧盟项目“EMDPA”，在项目进展过程中，HORIBA Scientific与来自7个国家的材料科学家进行了反复的论证与实验，*终由专业的辉光放电质谱（GD-MS）研究团队设计而成。

PP-TOFMS是一款集辉光放电和飞行时间质谱优势为一体的新型分析设备，可极大地推进镀层样品的分析进程。PP-TOFMS结合了辉光放电等离子体的溅射速度和时间飞行质谱的快速及高灵敏度，可以实现高分辨率和高灵敏度条件下固体材料的快速化学深度剖析。

PP-TOFMS适用于导体、半导体、非导体各类材料及镀层分析，每30微秒即可获得H到U元素的完整质谱和分子信息，包括同位素。在获得固体样品的元素信息的同时，PP-TOFMS还可以获得同位素及分子的分布信息。在整个分析过程中，样品无需预处理，设备无需超高真空腔，操作简单而快速。

主要应用领域：

· 掺杂分析（半导体、光电子、太阳能光伏、传感器、固态电源）

· 表面和整体污染鉴定（PVD镀层、摩擦层、电气镀层、光学镀层、磁性镀层）

· 腐蚀科学和技术（示踪物、标记监测、同位素标记）

· 界面监测等

PP-TOFMS非常适用于稀土元素的检出，下图为氧化锌薄膜的深度剖析。未使用校准曲线，通过离子束比可直接获得稀土元素Eu和Tb随深度的原子百分比变化。

PP-TOFMS的深度分辨率达1 nm，可有效地将薄镀层中元素随深度的变化表征出来。并可获得任何深度的全质谱。

数据采集分析软件设计得非常人性化，可清晰直观呈现所有数据，以便快速掌控信息。