TX500C旋转滴超低界面张力仪是基于美国美国科诺工业的专业技术的经典型界面张力仪,采用本系列界面张力仪可以实现低/超低界面张力值的分析,广泛应用于日化用品、油田三采、微乳、表面活性剂等行业。美国科诺专业生产TX500系列旋转滴界面张力仪,并为您提供包括表面张力仪、界面张力仪、接触角仪等界面化学分析一站式的全面解决方案。
◇ TX500C旋转滴超低界面张力仪特点:
1、采用经典的铝合金块加热系统,设计简单方便;
2、易于操作的PID直流电机控制系统,可克服重力对界面张力测值影响并形成旋转滴,以便分析界面张力值;
3、测量范围宽,其量程范围为100mN/m-10-5mN/,界面张力测值分辨率高;
4、采用大倍率高精度数显显微镜,成像效果好;
5、采用新型固态白光光源,亮度高,响应速度快,使用寿命长,既可同步频闪又可常亮 ;
6、采用高转速、长寿命、高精度增量式数字反馈直流电机;
7、一体机结构,紧凑,小巧,牢固,噪音低,便于携带;
8、Windows下操作软件功能:可直接设定工作温度和转速,还可设定自动截取图像的时间间隔,从而进行时间与张力的动态变化分析。
9、直插式、可移动、要更换式样品管设计,方便清洗,方便测值,操作更方便。
10、选购TX500CX可享受更高的性价比,选购TX500CP,可获得更多的升级功能。
11、你更可选购TX500D,分享美国科诺最新的技术成果,包括温度控制系统、电机系统、加样系统的全面升级服务。
◇ TX500C旋转滴界面张力仪应用范围
l 油田三次采油工艺中界面张力分析测值 l 乳液、聚合物界面张力测试 | l 医药、喷雾、油漆和涂料界面张力测试 l 化妆品、食品工业的界面张力分析 l 表面活性剂,肥皂和洗涤剂 |
通常的界面张力值(>1mN/m以上)测试时,建议采购A201/A101型全自动表面张力仪测值精度更高 |
◇ TX500C旋转滴超低界面张力仪技术参数说明
一、通用指标
1、界面张力测量范围:102-10-5mN/m
二、硬件指标
1、显微镜头变倍范围:0.7-4.5X
2、CCD相机分辨率:768*576
3、视频捕捉系统:PCI视频采集卡
4、镜头控制:X轴 面板控制寻像、精调;粗调整机摆动设计 无精度
5、电机控制范围:1000—9000转/分
6、加热系统控温范围:室温 +8-85℃
7、测量用样品管:内径 φ6mm、φ2mm 两种
8、通讯接口:RS-232串口
美国科诺工业有限公司由哈佛材料学院Award.AN博士及研发团队在1996年创立。创立之初,美国科诺即把公司注意力专注于表面/界面化学分析仪器研制领域。长期以来,美国科诺的界面化学分析仪器已经广泛应用于科研院所、知名企业的研发中心以及各大院校的化学系、材料系、机械系、生命科学系等。
自2009年始,美国科诺为提升亚太地区的服务级别,在中国香港建立服务小组,并重新授权了中国地区的技术服务以及销售厂商,全面提高了专业技术服务以及研发水平。通过国际化合作,美国科诺实现了更合理的成本完成更高水平的测试技术的仪器设计理念。
目前,我们可以自信地告知我们的用户,您选购的美国科诺产品在如下领域的技术是我们的专利,且在技术水平上尚属于世界领先:
(1)基于弹性系数的浮力修正模式:
基于弹性系数的浮力修正模式,完面解决了白金板法测值浮力修正不准的问题,真正实现了用称重法分析动/静态表面/界面张力,属于世界领先技术;
(2)USB控制及通讯接口技术:A20系列表面张力仪最突出的优点在于它是真正的USB控制技术,包括了称重传感器以及位移控制。这样,可以更方便地与笔记本电脑或台式机等各种不同的平台上使用。
(3)测值数据管理技术:我们提供了强大的数据管理技术,可以将整条测值曲线的所有值保存下来,并可进行二次调整、数据导出功能。
(4)双重校准技术:以往意义上,表面张力仪只会进行传感器一次校准,我们的仪器同时会提供整机感测界面的二次校准技术,从而全面提升测值精度。
(1)多达5种计算接触角计算方法,全面符合客户不同的需求;
(2)专业的Spline曲线拟合技术,广泛应用于复杂曲线的拟合及角度分析;特别用本曲线分析纤维接触角时,更真实而准确;
(3)创新的“真实液滴法”技术,提供了所见即所得的准确分析,全面领先于世界。
3、界面张力仪Model TX 500系列如下技术: (1)基于编码器电流感应伺服管理系统,提供了多达500个感测点,真正提高了旋转轴离心力管理技术。
(2)基于水平线温度控制系统,采用了最新的数码温度传感器,温度自校技术,使样品的温度真正符合您的设置值。
(3)革新的双向顶式样品管固定技术,全面提升样品管的稳定性。
(4)自动边缘查找技术,真实实现了自动分析界面张力值。
创新·专业·领先 美国科诺将全面引进最新的技术,与广大用户一起,提升界面化学分析仪器应用水平。
我们热诚欢迎广大用户参与美国科诺工业的发展,全面提升国内表界面科学的研发水平。