微粒晶片表面沉积系统
高效率微粒表面沉积系统包括最先进的气溶胶雾化发生、静电分离及沉积技术，用于产生可溯源NIST的PSL球及加工过程颗粒沉积在晶片表面的标准晶片，用于研究不同折射稀疏对晶片检测系统的影响并标定检测系统，也可用于评价晶片干法/湿法清洗系统的性能。
仪器特点：
l 通过DMA技术去处双颗粒、三颗粒及其它杂质颗粒，使之不能沉积在晶片表面
l DMA测量经过温度及压力补偿、使得产生可溯源NIST的PSL球标准晶片
l 符合CE Mark、SEMI S2/S8/S14等亚洲、欧洲及美国规范要求
l 通过DMA沉积单一粒径颗粒于晶片表面
l 颗粒沉积粒径：
标准单 DMA：0.08 – 1.0 µm
可选双DMA：0.03 – 3.0 µm
l 4个内置超声波雾化发生器产生稳定、高浓度的气溶胶
科艺仪器有限公司 (A & P INSTRUMENT CO., LTD.) 1984年成立于香港，二十多年来以提供高素质之科学仪器、完备之技术服务而倍受科研用户的信赖。本公司所代理世界各国数十家高科技公司的产品，几乎包括了所有科研、教学及生产所需的数万种仪器和设备。
产品内容涉及以下三个方面：
1. 各种激光器、激光配件及光学光电子通讯产品；
2. 大学、中学各学科的教学仪器；
3. 实验室通用仪器及食品、环保监测、材料测试仪器。
科艺仪器有限公司以提供优质的产品和上佳的技术服务为宗旨，所有的员工都受过良好的训练和培训，具有较高的学识和能力。这支强大的员工队伍使公司得以不断的发展和完善。
该 扫描式高效过滤器捡漏及效率测定系统 为性能优越的高效及超高效空气过滤器自动扫描捡漏及效率测定系统，可按照用户要求定制。仪器可程序控制运行参数，机械手带动采样头自动二维扫描。
① 凡本网注明"来源：易推广"的所有作品，版权均属于易推广，未经本网授权不得转载、摘编或利用其它方式使用。已获本网授权的作品，应在授权范围内
使用，并注明"来源：易推广"。违者本网将追究相关法律责任。② 本网凡注明"来源：xxx（非本网）"的作品，均转载自其它媒体，转载目的在于传递更多信息，并不代表本网赞同其观点和对其真实性负责，且不承担此 类作品侵权行为的直接责任及连带责任。如其他媒体、网站或个人从本网下载使用 ，必须保留本网注明的"稿件来源"，并自负版权等法律责任。
③ 如涉及作品内容、版权等问题，请在作品发表之日起两周内与本网联系，否则视为放弃相关权利。
④易推广页面显示产品信息均由企业自主发布，信息内容真实性、准确性与合法性由相关企业负责，易推广对此不承担任何责任，如遇非法或侵权信息欢迎监督，请联系QQ：1273397930或者发邮件至：1273397930@qq.com，如有确实证件证明属实，本站将对其删除处理，谢谢！
⑤ 本信息由注册会员：科艺仪器有限公司发布并且负责版权等法律责任。
易推广客服微信
