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提供优越的图像质量和稳固可靠的机械结构;
操作简便,附件齐全,广泛应用于教学科研金相分析、
半导体硅晶片检测、地址矿物分析、精密工程测量等领域
■ 光学系统:无限远色差校正光学系统(CSIS),像质更好,分辨率更高,观察更舒适。
■ 目镜及物镜:高眼点、超宽视野平场目镜,PL10x/22mm,提供更加宽阔平坦的观察空间并可加装用于测量的各类测微尺,无限远平场消色差超长工作距专业金相物镜,无盖玻片设计。
■ 观察筒:铰链式双目/三目/数码一体化观察筒,视度可调节,30°倾斜,可进行摄影摄像,对观察图像进行采集和保存,配置电脑和专业软件实现图像分析。
■ 调焦机构:低手位粗微调同轴调焦机构,粗调行程28mm,微调精度0.002mm,带有平台位置上下调节机构,样品高度可达50mm(反射)、30mm(透反射),带有粗调松紧调节装置和随机限位装置。
■ 照明系统:反射照明器带斜照明装置,可以再观察细微组织结构时产生浮雕立体的特殊观察效果,自适应90V-240V宽电压,单颗3WLED高亮度冷光源。技术规格
光学系统 | 无限远色差校正光学系统 |
观察筒 | 铰链式双目头,30°倾斜,可360º旋转,瞳距调节范围:54-75mm,单边视度调节±5 |
铰链式三目头,分光比:双目100%,双目:三目=50%:50% | |
目镜 | 高眼点大视野平场目镜PL10X22mm |
高眼点大视野平场目镜PL15X/16mm | |
物镜 | 无限远长工作距平场消色差金相物镜: PL40X/0.6 /WD3.7mm |
转换器 | 5孔内倾式转换器 |
调焦机构 | 反射式机架,低手位粗微同轴调焦机构。粗调行程28mm,带平台位置上下调节机构,最大样品高度50mm,微调精度0.002mm.带有防止下滑的调节松紧装置和随机上限位装置 |
透反两用机架,低手位粗微同轴调焦机构。粗调行程28mm,带平台位置上下调节机构,最大样品高度30mm,微调精度0.002mm.带有防止下滑的调节松紧装置和随机上限位装置.带12V 50W透射光照明系统.上下光可独立控制. | |
载物台 | 175×145mm双层复合机械平台,可拆卸;平台经过特殊工艺处理,防腐耐磨.,移动范围76mmX50mm,配反射用金属载物台板 |
175×145mm双层复合机械平台,可拆卸;平台经过特殊工艺处理,防腐耐磨.,移动范围76mmX50mm,配透、反两用玻璃载物台板 | |
反射照明系统 | 反射照明器,柯拉照明系统,带视场光阑与孔径光阑,中心可调;带斜照明装置,自适应90V-240V宽电压输入,单颗大功率3W LED,预定中心,亮度连续可调 |
透射照明系统 | 90-240V宽电压,6V20W卤素灯箱,灯丝中心可调,摇出式消色差聚光镜(N.A 0.7) |
偏光装置 | 起偏镜 |
固定式检偏镜/可360度旋转式检偏镜 | |
滤色片 | 反射用干涉滤光片:蓝色≤480/绿色520-570/红色630-750/色平衡片(白光) |
透射用:黄/绿/蓝/中性 | |
摄影装置 | 摄影接筒 |
摄像装置 | 1.0X C型摄像接筒 |
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