天津1700℃真空CVD系统

天津万和天仪科技有限公司

1700℃真空CVD系统由高温管式炉，高真空扩散泵/分子泵系统，多通道高精度数字质量流量控制系统，自动压强控制系统等组成。可实现本底真空达0.001—0.0001Pa混合气体化学气相沉积和扩散试验。

主要功能和特点：

1、真空系统可根据使用要求选择我司扩散泵机组或分子泵机组；

2、可配合压强控制仪控制气体压力实现负压的精准控制；

3、数字质量流量控制系统是由多路质量流量计，流量显示仪等组成，实现气体的流量的精密测量和控制；

4、每条气体管路均配备高压逆止阀，保证系统的安全可靠。 5、采用水冷KF快速法兰密封，装卸方便快捷；

6、管路采用世界顶级Swagelok卡套连接，不漏气；

7、超温、过压时，自动切断加热电源及流量计进气，保证设备及实验的安全性。主要用途和适用范围：适用于真空镀膜、纳米薄膜材料制备、纳米线生长等场所。主要技术参数：

主要技术参数：

SGL-1700 高温炉	控温方式	采用人工智能调节技术，具有PID调节、自整定功能，并可编制50段升降温程序。
	加热元件	进口1700型优质硅钼棒
	工作电源	AC220V 50Hz/60Hz；额定功率6kw
	炉管材质	99瓷氧化铝刚玉管
	炉管尺寸	Φ60/80/100*/1000mm
	工作温度	≤1600℃
	最高温度	1650℃
	恒温精度	±1℃
	升温速度	≤10℃/min
	测温元件	B型热电偶
	密封方式	不锈钢水冷KF法兰挤压密封
ZK 真空系统		ZK-F	ZK-K
	真空范围	0.1-0.001Pa	0.1-0.01Pa
	极限真空	5.0*10^-5Pa	5.0*10^-4Pa
	产品配置	双级旋片真空泵+分子泵	双级旋片真空泵+扩散泵
	冷却方式	风冷	水冷
	抽速	110L/S	100L/S
	测量方式	复合真空计
	真空规管	电阻规+电离规
ZDC-I 压强控制系统	测量范围	110^5～110^-1 Pa
	稳压 (真空)范围	110^3～110Pa
	压力 (稳定精度）	±3%
	控制范围	2.510^3～510^-1 Pa
	控制精度	± 1%
HQZ-Ⅲ 混气系统	控制方式	D07-7K质量流量计,D08流量显示仪
	流量规格（可订制）	0－500SCCM /0－1SLM,
	线性	±1%F.S.
	准确度	±1%F.S.
	重复精度	±0.2%F.S.
	响应时间	≤2sec
	耐压	3MPa
	气路通道	3通道（根据客户需求）
	针阀	316不锈钢
	管道	Φ6mm不锈钢管
	接口	SwagelokΦ6mm

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