多弧铬靶 高纯铬靶 黑色铬靶 铬块 铬靶 铬材 真空镀膜靶材 离子镀膜靶材

1.应用领域

产品广泛应用于真空制盐，精细化工，石油化工，制药，氯碱工业，电镀，电解，航空

航天，海水淡化等行业。

2、加工工艺

锻造、轧制

3、表面

车光、倒角。表面清洁光滑，无起皮，气孔，裂纹等缺陷。

4、规格

Φ100*40，Φ98*40，Φ95*45，Φ90*40，Φ85*35，Φ65*40较常见，其他规格可按客户

要求制作。

5、执行标准

国标：GB/T 16598，GB/T2965 。

美标：ASTM B381,ASTM F67,ASTMF136, ASTM B348。

6、检测

破坏性检测：物理性能测试，硬度测试，化学成分测试。

无损检测：超声检测，渗透检测，外观检测。

离子镀是真空室中，利用气体放电或被蒸发物质部分离化，在气体离子或被蒸发物质粒子轰击作用的同时，将蒸发物或反应物沉积在基片上。离子镀把辉光放电现象、等离子体技术和真空蒸发三者有机结合起来，不仅能明显地改进了膜质量，而且还扩大了薄膜的应用范围。其优点是薄膜附着力强，绕射性好，膜材广泛等。D.M.首次提出离子镀原理，起工作过程是:

先将真空室抽至4×10(-3)帕以上的真空度，再接通高压电源，在蒸发源与基片之间建立一个低压气体放电的低温等离子区。基片电极接上5KV直流负高压，从而形成辉光放电阴极。辉光放电区产生的惰性气体离子进入阴极暗区被电场加速并轰击基片表面，对其进行清洗。然后进入镀膜过程，加热使镀料气化，起原子进入等离子区，与惰性气体离子及电子发生碰撞，少部分产生离化。离化后的离子及气体离子以较高能量轰击镀层表面，致使膜层质量得到改善。

然而多弧离子镀与一般的离子镀有着很大的区别。多弧离子镀采用的是弧光放电，而并不是传统离子镀的辉光放电进行沉积。简单的说，多弧离子镀的原理就是把阴极靶作为蒸发源，通过靶与阳极壳体之间的弧光放电，使靶材蒸发，从而在空间中形成等离子体，对基体进行沉积。

离子镀膜的优点：

折叠

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