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腐蚀清洗机FXH50/ZF

腐蚀清洗机

  • 价 格: 60万元元
  • 型号:FXH50/ZF
  • 生 产 地:西安
  • 访问:1035次
  • 发布日期:2009/11/2(更新日期:1900/1/1)

捷盛电子技术有限责任公司

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FXH50/ZF腐蚀清洗机:主要用于IC生产及元器件生产中晶片的湿法刻蚀、清洗工艺
  • 详细内容
  • 公司简介

FXH50/ZF腐蚀清洗机

腐蚀清洗设备主要用于IC生产及元器件生产中晶片的湿法刻蚀、清洗工艺。其作用是去除晶片表面的有机物、颗粒、金属杂质、自然氧化层及石、塑料等附件器皿的污染物。广泛用于抛光片、扩散前、CMP后、氧化前及光刻后等关键工艺的清洗。 我公司可生产手动、半自动及全自动刻蚀、清洗设备,以满足2˝~8˝晶片各种工艺需求。 用户可根据不同工艺选择不同的工艺模块。模块有:一号液(SCⅡ)、二号液(SCⅢ)、稀释氢氟(DHF)、快排冲水(QDR)、恒温水浴缓冲刻蚀(BOE)、干燥(IPA)等。操作方式可分为全自动(PLC+触摸屏)、半自动和手动方式。 专业为客户做适用于各种场合的湿法刻蚀、清洗等设备。

腐蚀清洗机 刻蚀机  腐蚀清洗设备

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