K975X涡轮蒸镀仪是一个多用途系统,它具有灵活性和模块化扩展功能,以适应不同的样品制备。
它可从蒸篮和坩锅进行碳蒸发、金属蒸发并且可选溅射附件。
K975X可应用一系列成熟技术,包括镀碳及TEM覆形,碳/金属蒸发、低角度Shadowing和通过使用双源蒸发进行顺序涂层,可选的溅射镀膜附件能适用于各种靶材。
通过使用微处理控制器,更增强了系统的灵活性,用户很容易附加各种可选件,但是这些“缺省”都是经过优化操作设计,使得全自动和手动操作均可实现最佳操作。
独特的抽屉式样品装载系统使用户方便放入各种样品,铰链式顶盖结构很容易达到系统其它区域。
涡轮分子泵安装在系统外部,可方便安装及更换,它的前级真空为旋转真空泵。 整个抽气过程为全自动控制,达到高真空后进行蒸发。本仪器为台式,可方便地进行使用控制,使用中的疏忽也不易造成损坏。
K975S半导体晶圆蒸镀仪
K975S基于K975X,但是它具有特殊的装载锁定门,可允许放入8英寸(200mm)晶圆镀碳,应用于FIB。
优点 ● 容易操作 ● 使用灵活 ● 可靠的碳蒸发 ● 方便的样品装载及卸载 ● 灵活的操作,可选择碳及金属蒸发源 ● 在排气过程中可防止样品损坏 ● 系统灵活性强 ● 很容易测量金属或碳沉积膜厚 |
特点 ● 全自动抽真空系统 ● 样品尺寸可达140毫米见方或200毫米直径 ● 独特的“anti-stick”碳棒蒸发机构 ● 抽屉式样品装载系统 ● 可选的蒸镀类型,具有四种蒸发设置 ● 约束的或开放的排气控制 ● 可选用各种溅射靶材附件适用于一系列金属 ● 可选膜厚监测系统 |
K950X高真空蒸镀仪在使用碳棒蒸镀时可给出连续的碳膜,并且使用涡轮分子泵时无污染。它可用于TEM和X-Ray分析中的覆膜,以及SEM中的导电涂层。碳棒头在仪器中作为标准件。这是一个“快速释放头”,使
我们经常需要对生物样品进行脱水,但水的临界点为+374℃及3212 p.s.i.,很不方便并且容易损坏试样。临界点干燥,就是在一定的温度和压力条件下,介质在液态和气态之间无明显的区别,分界面的表面应力
K1050X等离子处理单元由固态射频发生器结合调谐电路组成,同时两种处理气体流量针阀监控,全部或部分通气口控制。抽屉式抽拉系统,固态射频等离子处理系统,应用于SEM/TEM中材料表面刻蚀、微观灰化、表
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