K550X具有旋转样品台,它也可倾斜,非常适合各种样品使用。预选择参数及全自动控制使得精确镀层及重复厚度沉积更为方便。
磁电管靶使用低电压,可提高效率,K550X能得到非常精细的颗粒,由于是冷溅射,所以无需冷却靶面或样品台。
腔室直径为165 mm(6英寸),非常方便装载及移走样品。
仪器装有60mm直径、0.1mm厚的金靶(或用户选择),提供最适合的性能价格比。可选靶材包括金/钯,铂/钯和铂。
功能集中在仪器面板上及即插即用电子学设计,最大的“up-time”,这些用户友好设计满足了不同学科的用户需求。
溅射参数可被预先设置,包括气体放气针阀,此阀为电磁阀,一旦设置,它就不需要再调节。溅射头互锁,系统可容易选配K250镀碳附件。本仪器为全自动操作,可控制独立的真空泵。
特点 ● 全自动控制 ● 低电压溅射 ● 高分辨率精细涂层(金颗粒可达2 nm) ● 具有倾斜装置的特殊旋转台 ● 均匀厚度沉积 (扫描电镜一般厚度为20nm 或200埃) ● 165 mm(6英寸)腔室 ● 可接膜厚监视器,实时监测镀覆层厚度 |
优点 ● 易操作 ● 无需冷却样品台 ● 精确的再次涂层 ● 适合各种样品 ● 膜厚度重复性好 ● 容易装载或卸载样品 ● 可预设沉积厚度 |
技术规格
仪器尺寸:450mm W x 350mm D x 175mm H 重量:18公斤
工作腔室:硼硅酸盐玻璃 165mm Dia x 125mm H
安全钟罩:聚碳酸酯
靶:60 mm 直径 x 0.1mm 厚(金作为标准靶面)
样品台:直径为60 mm,靶面距离40mm,具有倾斜
装置的旋转台
真空范围:ATM-1x10-2 mbar
溅射电流:0-50mA
沉积速率:0-25nm/分
溅射定时: 0-4 分钟
预设置针阀:控制氩
电源:230 伏 50Hz
(10 amp max. including Pump)
K950X高真空蒸镀仪在使用碳棒蒸镀时可给出连续的碳膜,并且使用涡轮分子泵时无污染。它可用于TEM和X-Ray分析中的覆膜,以及SEM中的导电涂层。碳棒头在仪器中作为标准件。这是一个“快速释放头”,使
我们经常需要对生物样品进行脱水,但水的临界点为+374℃及3212 p.s.i.,很不方便并且容易损坏试样。临界点干燥,就是在一定的温度和压力条件下,介质在液态和气态之间无明显的区别,分界面的表面应力
K1050X等离子处理单元由固态射频发生器结合调谐电路组成,同时两种处理气体流量针阀监控,全部或部分通气口控制。抽屉式抽拉系统,固态射频等离子处理系统,应用于SEM/TEM中材料表面刻蚀、微观灰化、表
① 凡本网注明"来源:易推广"的所有作品,版权均属于易推广,未经本网授权不得转载、摘编或利用其它方式使用。已获本网授权的作品,应在授权范围内
使用,并注明"来源:易推广"。违者本网将追究相关法律责任。② 本网凡注明"来源:xxx(非本网)"的作品,均转载自其它媒体,转载目的在于传递更多信息,并不代表本网赞同其观点和对其真实性负责,且不承担此 类作品侵权行为的直接责任及连带责任。如其他媒体、网站或个人从本网下载使用 ,必须保留本网注明的"稿件来源",并自负版权等法律责任。
③ 如涉及作品内容、版权等问题,请在作品发表之日起两周内与本网联系,否则视为放弃相关权利。
④易推广页面显示产品信息均由企业自主发布,信息内容真实性、准确性与合法性由相关企业负责,易推广对此不承担任何责任,如遇非法或侵权信息欢迎监督,请联系QQ:1273397930或者发邮件至:1273397930@qq.com,如有确实证件证明属实,本站将对其删除处理,谢谢!
⑤ 本信息由注册会员:南京覃思科技有限公司发布并且负责版权等法律责任。
易推广客服微信