您的位置:首页 > 产品展厅 > Peltier制冷型高真空溅射镀膜仪
K575X使用“涡轮”泵,前级为旋片式机械泵,整个抽真空过程为自动控制。
真空度可调整,以适应铬或其它易氧化金属,以及金靶等不同材料要求,定时器可设置成不同的溅射时间。
本系统装配了磁控管靶,靶面直径为54 mm,可快速更换靶材。
溅射头用Peltier制冷,可得到高性能、精细颗粒的涂层(无需水冷却)。
溅射时参数可预设,包括气体放气电磁阀。
K575d(双头)其它与K575X相同,只是具有两个溅射头。在进行特殊涂层的应用时,不需要打开真空即可进行两层沉积溅镀。
注:K575d技术规格与K575X相同,但它具有两头。K575X具有peltier制冷,对于比较厚的沉积,通常用K575d(双头)单元,它需要用水冷却。
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K950X高真空蒸镀仪在使用碳棒蒸镀时可给出连续的碳膜,并且使用涡轮分子泵时无污染。它可用于TEM和X-Ray分析中的覆膜,以及SEM中的导电涂层。碳棒头在仪器中作为标准件。这是一个“快速释放头”,使
我们经常需要对生物样品进行脱水,但水的临界点为+374℃及3212 p.s.i.,很不方便并且容易损坏试样。临界点干燥,就是在一定的温度和压力条件下,介质在液态和气态之间无明显的区别,分界面的表面应力
K1050X等离子处理单元由固态射频发生器结合调谐电路组成,同时两种处理气体流量针阀监控,全部或部分通气口控制。抽屉式抽拉系统,固态射频等离子处理系统,应用于SEM/TEM中材料表面刻蚀、微观灰化、表
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