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原子力显微镜AFM

原子力显微镜

  • 价 格: 电议
  • 型号:AFM
  • 生 产 地:美國
  • 访问:1461次
  • 发布日期:2009/11/2(更新日期:1900/1/1)

源顺科技仪器有限公司

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产品展示

在所有的AFM产品中,我们都要传递出用户最小的复杂性和最好的性能。通过性能卓越的分析仪器,
  • 详细内容
  • 公司简介

原子力显微镜

晶体扫描仪(Crystal Scanner TM)是美国PNI公司开发的一种新颖的扫描仪。使用该扫描仪,无需知道更多扫描探针显微学(SPM)知识的人士便可获得纳米范围的形貌像。晶体扫描仪的核心是一种新型的无需复杂光路调整(Alignment)过程的力传感器。它能够进行纳米结构的成像和分析。
使用装有晶体扫描仪的Nano-R TM原子力显微镜(AFM),工程师和科学工作者无需等候获得扫描的纳米结构图像,而是直接测量物体的形貌像。公司和研究机构也不用雇佣AFM专家,这样可为纳米技术的研究、发展和工艺控制节省大量的成本。
晶体扫描仪在纳米牛顿力测量领域内注入了新的设计理念。将该扫描仪与Nano-R TM型AFM的测试台和软件相结合,便可以得到一个新的用户友好接口的纳米成像仪器。尤其是,当配合点和扫描(Point & Scan TM)技术,将大大简化仪器的操作过程。

原子力显微镜

点和扫描技术
点和扫描技术大大减少了传统系统软件的复杂性,只要按照屏幕上的操作提示便可完成测试。几步操作后,实验人员便可以在计算机屏幕上看到图像。
点和扫描技术使用标准的纳米成像操作步骤。步骤如下:

  • 选择样品类型;

  • 将样品放置于显微镜下;

  • 如有必要,更换晶体传感器(只需几分钟);

  • 选择要扫描的样品区域;

  • 成像操作。

上述的纳米成像过程同样可以分析DVD和半导体器件结构以及对纳米管、纳米粒子和纳米晶体进行高分辨的纳米成像。
点和扫描技术包括3个方面的创新性:晶体传感器,测试台的自动化和高级软件

  • 晶体传感器

晶体扫描仪里的力传感器是一种非常小的晶体振荡器,在其晶体的末端装有针尖,如图1和2所示。当探针靠近样品表面时,其振荡的振幅将衰减。衰减的幅度取决于探针和样品之间的作用力。扫描时,使用软件可以优化振荡频率和力的大小。使用时,晶体传感器无需任何力的调整。
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图1晶体扫描仪中的石英交叉晶体 图2晶体传感器安装在零插入力模块上

  • 测试台自动化

先进的测试台自动化大大简化了装有晶体传感器的Nano-R TM型AFM的操作过程。结合马达驱动的光学系统、样品定位和探针-样品控制,无需任何手动调整。因此,便可以实现“放置样品-设定扫描区域-开始扫描”的简单操作过程。

  • 晶体扫描软件

晶体扫描软件(CSS)大大简化了晶体扫描仪的操作。安装CSS后,实验人员便可以从窗口菜单上选择需要成像的样品类型。有关样品类型的信息可存储在计算机内,需要时可调用。例如,CSS可以使用设置的扫描参数。CSS与测试台自动化的相结合是一个强有力的工具。举例来说,当运行CSS时,样品台会自动移动到样品适于成像的位置。CSS也可以将样品进一步设置成适于视频光学记录的位置。
实验人员必须更换样品和探针。为了简化操作过程,几个视频系统集成于CSS中。这些配置有利于示意如何更换探针以及放置样品到成像的位置。软件接口如图3所示。
3图3软件接口

CSS软件的高级算法可用来判断探针的成像质量和优化扫描参数。对某些特殊的样品,这些高级算法的运用可设计成样品信息文件。

先进的扫描仪设计
使用移动探针的先进弯曲压电扫描仪设计可确保精确测量。这样,在x-y-z轴和图像间可测量最小的色度亮度干扰,以表明没有背底弯曲。
外置的x、y、z轴校准传感器可监视弯曲扫描仪的动作。这种传感器在x、y、z轴线性化和校准扫描仪显得非常必要。这些传感器对于点和位置测量也很有必要,对于图像中某个特殊形貌的放大应用也显得非常必要。晶体扫描仪的技术参数如表1。
表1? 晶体扫描仪的技术参数


范围

线性度

干扰

噪声

X-Y

65 微米

X-Y-Z

< 1%

XY

< 1%

Vertical < 0.1 nm

Z

8 微米

ZX

< 2%

ZY

< 2%

与光杠杆传感器的切换
常规的AFM使用光杠杆(Light Lever)来测量探针与样品之间的作用力。尽管光杠杆机构较为复杂且需要调光路,但也有一些优点。其主要优点是:可以进行材料敏感模式的测量,如侧向力或摩擦力像和相位移成像;另外,还可进行磁力和静电力成像。
Nano-R TM型AFM测试台可与光杠杆传感器兼容。只需几分钟便可切换光杠杆传感器和晶体传感器。切换安装后,光杠杆式AFM便可以进行接触或振荡模式的形貌像测量。

应用
使用晶体扫描仪的Nano-R TM型AFM可测量各种样品如工业样品和需要高分辨成像的纳米结构的形貌像。工业样品包括DVD、显微镜头、纸张、光栅和图形化的芯片。高分辨成像的纳米结构包括晶粒、纳米粒子、纳米晶体和纳米管。图4示出了一些使用晶体扫描仪的AFM形貌像。
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源顺国际有限公司

源顺国际有限公司是一家专门从事纳米科技,材料分析,光电产品检测及生产设备销售和技术咨询的高科技公司。我们独家代理具有世界先进水平的分析仪器,产品涵盖了微观结构观察,物理性能,力学性能及电磁学性能。
Total Solution ,为客户提供整体解决方案,是源顺公司一贯坚持的宗旨。 这个宗旨象征高新科技、品质与客户服务,并将在新的世纪中,全面提升服务品质以伴随您的阔步发展。
源顺公司秉持企业文化:『诚信』、『品质』、『服务』、『团队』、『创新』,本着其宗旨『Total Solution』,继续将最先进的技术,以最佳的成本效益,提供客户最优质的精密分析仪器和生产设备,并坚持最完美的服务。

公司产品主要有:
LUM公司: 多功能的颗粒状态与稳定度分析仪
Qudix公司: 奈米 & 微米颗粒大小分析仪。
Scinco公司: 可见光及紫外光光度计(UV-Vis Spectrophotometer), Colormate。
SOFRASER公司: 在线粘度计。
ProRheo公司: 高阶粘度计。
Rame-hart公司: 接触角及表面张力分析仪。
AET 公司: 微波诱电分析仪
NANOFILM公司: 呈象椭偏仪,布氏角显微镜,LB 薄膜分析。
UNIOPT公司: 双折射分析仪。
NonoInk: Dip Pen Nanolithography (DPN) 沾笔式纳米制程技术。
ANASYS 公司: Nano-Thermal Analysis。
PNI公司: 原力显微镜(AFM)
Capres公司: MRAM,写磁头的MTJ 磁阻和隧阻&材料表面 Nano微区范围的阻抗分析.
LYNCEETEC公司: DHM (数字全析显微镜)
BEDE公司: 高分辨X射线衍射仪。
OMI公司: Solstice (晶圆或外延片的能阶Bandgap分析,Strained Silicon 分析)。
Equinox (IC or MEMS封装应变,3D热机械变形及CTE分析)。
Pascal公司: 脉冲雷射溅镀MBE(PLD MBE) – ZnO, GaN, etc.。
Cambridge Nano Tech: 原子薄膜沉积仪 (ALD).
EpiQuest公司: 研发型 MOCVD,MBE,VCSEL 氧化系统。


源顺国际公司总部设在香港,在上海和北京设立了分公司,深圳和成都设立了办事处,并有强大的技术和维修队伍,为客户提供最高水平的产品和服务。

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