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深圳市蓝星宇电子科技有限公司 主营产品：光刻机,真空镀膜机,离子刻蚀机,,半导体辅助材料,半导体微纳检测仪器,太阳能吸收率发射击队率检测仪,,实验检测仪器设备,紫外线UV光清洗机UV灯.

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参观次数：749497

手机网站：http://m.yituig.com/c143096/

商铺地址：http://www.lxyee.net

光刻机&3D打印机

镀膜沉积机

离子刻蚀与沉积

匀胶涂覆机

半导体辅助设备

半导体微纳检测仪器

实验检测仪器

紫外清洗等离子清洗机

太阳能检测仪

德国YXLON 检测仪

德国Netzsch

Rion 液体光学颗粒度仪

液体光学颗粒度仪

奥地利EVG光刻杨键合机压印机

尼康Nikon光刻机

德国Lecia 切片掩膜一体机

日本Elionix

化学开封机 / 激光开封机

光刻胶/硅片

半导体辅助工艺/光刻胶

日立Hitachi

UV灯

已选条件

  • OCTOPLUS 1000 多波束电子束

    德国 Eberl 的多波束电子束OCTOPLUS 1000系统，专为最大12英寸SiGe外延生长设计，适用于MBE（分子束外延）工艺。该系统提供高效、高精度的沉积技术，确保高质量薄膜的生长，广泛应用于半导体制造领域。

    价 格：￥电议型 号：产 地：欧洲

  • 德国Eberl 多波束电子束 OCTOPLUS 1000

    德国Eberl 多波束电子束 OCTOPLUS 1000, 用于大 12 英寸基底 SiGe 外延生长的 MBE 系统

    价 格：￥电议型 号：产 地：欧洲

  • WaferX 310Rigaku X射线荧光分析仪

    日本Rigaku X射线荧光分析仪 WaferX 310, 通过X射线以大角度照射在镀膜的硅片样品上,产生镀膜 样品的相应特征X射线的方法，进而分析测量硅片样品的 镀膜厚度。

    价 格：￥电议型 号：WaferX 310产 地：日本

  • HBO350W/S，HBO5000W/S,HBO200W/DC,HBO1000W/DSUSS光刻机用曝光灯HBO系列

    SUSS苏斯/休斯，EVG, OAI等系列光刻机用曝光灯HBO系列，$r$nSUSS苏斯，EVG, OAI公司生产的半导体和太阳能行业用光刻机，目得到业界的广泛认同，该系列光刻机曝光系统的曝光灯，主要是由德国欧司朗及日本牛尾公司生产的曝光灯进行配套供应。欧司朗/牛尾曝光灯系列，具备良好的光通量，稳定的光强度以及优质的品质受到业界的青睐。

    价 格：￥电议型 号：HBO350W/S，HBO5000W/S,HBO200W/DC,HBO1000W/D产 地：中国大陆

  • NIE-4000,NIE-3500,NIR-4000,NIE-3000美Nano-master等离子清洗/灰化系统

    NANO-MASTER等离子清洗和灰化系统设计用于广泛的需求，从批处理和单晶圆的光刻胶剥离到晶圆表面改性都可以涵盖。这些系统通过计算机控制，可以配套不同的等离子源，加热和不加热的基片夹具，以及独一无二的从等离子刻蚀切换到RIE刻蚀模式的能力。$r$n$r$n$r$n$r$n$r

    价 格：￥电议型 号：NIE-4000,NIE-3500,NIR-4000,NIE-3000产 地：美洲

  • NSC-4000,NSC-3500,NSC-3000,NSC-1000美Nano-master磁控溅射系统

    美Nano-master磁控溅射系统：$r$n$r$nNSC-4000独立式磁控溅射系统，可支持共溅射等能力的扩展$r$n$r$nNSC-3500紧凑型独立式热蒸镀，可以支持金属材料的DC溅射，介质材料的RF溅射，以及脉冲DC溅射等应用。$r$n$r$nNSC-3000可支持多4个靶的DC溅射或RF溅射$r$n$r$nNSC-1000单金靶靶材的台式溅射系统，不但可用于电镜制备，也可以用于常规的金属溅射

    价 格：￥电议型 号：NSC-4000,NSC-3500,NSC-3000,NSC-1000产 地：美洲

  • NTE-4000,NTE-3500,NTE-3000,NTE-1000美Nano-master热蒸镀系统

    美Nano-master热蒸镀系统：NTE-4000 独立式电子束蒸镀，NTE-3500 紧凑型独立式热蒸镀，NTE-3000 双蒸源台式热蒸镀系统，NTE-1000 简便型热蒸镀。热蒸镀系统可以跟NANO-MASTER那诺-马斯特的其它任意真空系统组成双系统。

    价 格：￥电议型 号：NTE-4000,NTE-3500,NTE-3000,NTE-1000产 地：美洲

  • EVG510IS奥地利EVG键合机

    EVG520IS是一款设计用于小批量生产的半自动晶圆键合系统， 大硅片允许尺寸为200mm。集EVG新技术及客户反馈基础上设计的EVG520IS，配备了EVG公司的利吸盘设计---这种吸盘可以提供对称的快速加热和冷却功能。EVG520IS的很多优势特性，如独立的上下盘加热和高压键合工艺、高度的材料和工艺灵活性等，都帮助客户很好的实施键合研究和生产。

    价 格：￥电议型 号：EVG510IS产 地：欧洲

  • EVG510奥地利EVG键合机

    奥地利EVG键合机：EVG510，是一款半自动晶圆键合系统，可以处理大200mm的晶圆，非常适合于研发和小批量生产。EVG510提供了除上料和下料外的全自动工艺处理过程，并配备了业界公认的优异的加热和压力均匀性系统。EVG510模块化的键合腔室设计可用于150mm或200mm晶圆键合，并且其工艺菜单与EVG其他更高系列的键合机相匹配，可以方便的实现从实验线到量产线的工艺复制。

    价 格：￥电议型 号：EVG510产 地：欧洲

  • EVG610奥地利EVG掩膜光刻机

    EVG610是一款非常灵活的适用于研发和小批量试产的对准系统，可处理大200mm之内的各种规格的晶片。EVG610支持各种标准的光刻工艺，例如：真空、软、硬接触和接近曝光；也支持其他特殊的应用，如键合对准、纳米压印光刻、微接触印刷等。系统中的工具更换非常简便快捷，每次更换都可在一分钟之内完成，而不需要门的工程人员和培训，非常适合大学、研究所的科研实验和小批量生产。$r$n

    价 格：￥电议型 号：EVG610产 地：其它

  • BHK汞灯

    $r$nBHK 汞灯$r$nBHK analamp®具有高效的双孔油管结构采用高质量熔融二氧化硅。低压水银Analamps®提供可靠的紫外-可见辐射，也可提供个特殊的石英外壳，这消除了185nm辐射的臭氧无操作。这外套通过减少快速环境的影响，提供更稳定的灯操作温度的变化。

    价 格：￥电议型 号：BHK产 地：日本

  • AR-P617德国 ALLRESIST 电子束光刻胶

    德国Allresist 电子束光刻胶（电子束抗蚀剂）（E-beam resist） 电子束正胶：PMMA 胶，PMMA/MA 聚合物， LIGA 用胶等。 电子束负胶：高分辨率电子束负胶，化学放大胶（高灵敏度电子束胶）等。

    价 格：￥电议型 号：AR-P617产 地：欧洲

  • 德国 ALLRESIST 特殊工艺用光刻胶

    德国Allresist 特殊工艺用光刻胶，电子束曝光导电胶，耐酸碱保护胶，聚酰亚胺胶（耐高温保护胶），全息光刻用胶，长波曝光胶， 深紫外曝光胶等特殊工艺用胶

    价 格：￥电议型 号：产 地：欧洲

  • 德国 ALLRESIST 紫外光刻胶

    德国 ALLRESIST 紫外光刻胶，各种工艺：喷涂专用胶，化学放大胶，lift-off胶，图形反转胶，高分辨率胶，LIGA用胶等。各种波长: 深紫外(Deep UV)、I线(i-line)、G线(g-line)、长波(longwave)曝光用光刻胶。各种厚度: 光刻胶厚度可从几十纳米到上百微米。

    价 格：￥电议型 号：产 地：欧洲

  • LTC 9305. LTC9310, LTC9320, LTC9505, LTC9富士负性PI

    富士负性PI LTC9000系列：LTC 9305. LTC9310, LTC9320, LTC9505, LTC9510, LTC9520.$r$n正性PI：FB5610,FB6610$r$n$r$n光敏性Polyimide Precursor: 7500, 7510, 7520 ,DUR 7300$r$n$r$n非光敏Polyamic Acid： 112A, 115A$r$n$r$nColor Mosaics: S

    价 格：￥电议型 号：LTC 9305. LTC9310, LTC9320, LTC9505, LTC9产 地：中国大陆

  • TRACE 1310Themo Scientific模块化气相色谱仪

    Themo Scientific模块化气相色谱仪TRACE 1300,在数分钟内无需工具切换即时连接进样口和检测器，实现前所未有的灵活性。 其简化的用户界面几次击键便可完成任务，还能保留完整的可编程性。

    价 格：￥电议型 号：TRACE 1310产 地：欧洲

  • TRACE 1310德国赛默飞 Themo Scientific 气相色谱仪

    德国赛默飞 Themo Scientific 气相色谱仪 TRACE 1310 , 该系统拥有用于仪器控制、状态监测和仪器上方法开发的全触摸屏设计。 拥有即时连接进样口和检测器，您可以在数分钟内更换模块，重新配置不同的工作流程、开发新方法并省去维护停机时间。$r$n

    价 格：￥电议型 号：TRACE 1310产 地：欧洲

  • MC1000日立Hitachi 离子溅射仪

    日立Hitachi 离子溅射仪 MC1000,采用LCD触摸屏，可以更加简便地设定加工条件,可处理较厚或较大的样品(选配件),记忆功能可存储常用加工条件$r$n.

    价 格：￥电议型 号：MC1000产 地：日本

  • EVO 10ZEISS 高分辨电子扫描显微镜

    ZEISS 高分辨电子扫描显微镜-EVO 10,具备自动化工作流程的高清晰扫描电镜

    价 格：￥电议型 号：EVO 10产 地：欧洲

  • EVO 10美国ZEISS 高分辨电子扫描显微镜

    ZEISS 高分辨电子扫描显微镜-EVO 10,具备自动化工作流程的高清晰扫描电镜$r$n$r$n

    价 格：￥电议型 号：EVO 10产 地：欧洲

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