Rion(第2页)_深圳市蓝星宇电子科技有限公司

KS-42C日本RION液体光学颗粒度仪

日本RION液体光学颗粒度仪KS-42C ( 光散射法）,宽广的测试范围，可测试 0.5~20um 之间的颗粒只需要小小的样品取样量就可以得到高效率高精准的颗粒数据。$r$n$r$n

价格：￥电议型号：KS-42C产地：日本
KS-42B,KS-42BF日本RION液体光学颗粒度仪

日本RION液体光学颗粒度仪KS-42B/42BF ( 光散射法）,宽广的测试范围，可测试 0.2~2.0um 之间的颗粒只需要小小的样品取样量就可以得到高效率高精准的颗粒数据。$r$n$r$n$r$n

价格：￥电议型号：KS-42B,KS-42BF产地：日本
KS-42A,KS-42AF日本RION液体光学颗粒度仪

日本RION液体光学颗粒度仪KS-42A&42AF ( 光散射法）,可测试 0.1~0.5um 之间的颗粒只需要小小的样品取样量就可以得到高效率高精准的颗粒数据。$r$n$r$n$r$n

价格：￥电议型号：KS-42A,KS-42AF产地：日本
KS-18F日本RION液体光学颗粒度仪

日本RION 液体光学颗粒度仪：KS-18F ( 光散射法）$r$n$r$n液体光学颗粒度仪 KS-18F$r$n宽广的测试范围，可测试 0.05~0.2um 之间的颗粒只需要小小的样品取样量就可以得到高效率高精准的颗粒数据。$r$n 可侦测到小粒径 0.05um 的粒子$r$n$r$n$r$n$r$n

价格：￥电议型号：KS-18F产地：日本
KS-41A日本RION液体光学颗粒度仪

日本RION液体光学颗粒度仪KS-41A ( 光阻用），可检测光阻产品、SOG 等产品中 0.15um 的颗粒。粒径范围（4个通道，出厂默认）：≥0.15μm， ≥0.2μm ， ≥0.3μm ， ≥0.5μm$r$n$r$n

价格：￥电议型号：KS-41A产地：日本
KC-24日本RION粒子计数器

日本RION粒子计数器KC-24 ( 光散射法）,液体粒子计数器，可检测从纯水到氢氟酸各种各样的液体。可测 0.1um 空气颗粒度仪KC-24

价格：￥电议型号：KC-24产地：日本
KS-19F日本理音RION液体光学颗粒度仪

日本理音RION液体光学颗粒度仪KS-19F，宽广的测试范围，可测试 0.03~0.13um 之间的颗粒只需要小小的样品取样量就可以得到高效率高精准的颗粒数据。

价格：￥电议型号：KS-19F产地：日本
KS-17B日本RION 液体光学颗粒度仪

日本RION 液体光学颗粒度仪：KS-17B ( 光散射法）,纯水用，大粒子数浓度：100 000 颗/mL （误差值低于5%），粒径范围（2个通道）：≥0.05μm， ≥0.1μm （4通道需工厂定制）

价格：￥电议型号：KS-17B产地：日本
KS-16,KS-16F日本RION 液体光学颗粒度仪

日本RION 液体光学颗粒度仪：KS-16/16F ( 光散射法）, 大粒子数浓度：1 200 颗/L （误差值低于5%）, 粒径范围（5个通道）：≥0.1μm， ≥0.15μm ， ≥0.2μm ， ≥0.3μm, ≥0.5μm

价格：￥电议型号：KS-16,KS-16F产地：日本
KL-28B/28BF日本RION气体粒子计数器

日本RION气体粒子计数器：KL-28B/28BF( 光散射法）,粒径范围（2个通道）：≥0.2μm， ≥0.5μm, 大粒子数浓度：1 200 颗/L （误差值低于5%）

价格：￥电议型号：KL-28B/28BF产地：日本
KS-93日本RION液体光学颗粒度仪

日本RION液体光学颗粒度仪：KS-93( 光散射法），大粒子数浓度：30 000 颗/L （误差值低于5%），粒径范围（5个通道）：≥0.1μm， ≥0.15μm ， ≥0.2μm ， ≥0.3μm, ≥0.5μm， ≥25μm

价格：￥电议型号：KS-93产地：日本
KL-05日本RION光遮蔽粒子计数器

日本RION光遮蔽粒子计数器 KL-05,（光渗透法），可测试粒径范围：1~20个通道范围，1.3μm~100（0.1μm的间隔）$r$n大粒子数浓度：10 000 颗/L （误差值低于10%）$r$n

价格：￥电议型号：KL-05产地：日本
KS-42CRion 液体光学颗粒度仪

液体光学颗粒度仪 KS-42C，宽广的测试范围，可测试 0.5~20um 之间的颗粒只需要小小的样品取样量就可以得到高效率高精准的颗粒数据。

价格：￥电议型号：KS-42C产地：日本
KS-19F日本RION液体光学颗粒度仪

日本Rion液体光学颗粒度仪KS-19F,宽广的测试范围，可测试 0.03~0.13um 之间的颗粒只需要小小的样品取样量就可以得到高效率高精准的颗粒数据。$r$n$r$n$r$n$r$n$r$n

价格：￥电议型号：KS-19F产地：中国大陆
KS-41B日本RION液体光学颗粒度仪

日本RION液体光学颗粒度仪KS-41B，可检测光阻产品、SOG 等产品中 0.1um 的颗粒。$r$n$r$n$r$n$r$n

价格：￥电议型号：KS-41B产地：日本
Orion HDCVD美国Trion 高密度化学气相沉积系统

Orion HDCVD 高密度气相化学沉积系统采用高密度的化学气相沉积技术，在惰性气体进入口安装感应线圈，周围布置陶瓷管。射频创建等离子体,通过气体环在衬底表面附近引入挥发性气体。当惰性气体与挥发性物质结合时，会发生化学反应，然后在衬底表面沉积一层薄膜.

价格：￥电议型号：Orion HDCVD产地：美洲
Orion III PECVD美国Trion 薄膜沉积系统

$r$n美国Trion Orion III PECVD 薄膜沉积系统$r$n可以在紧凑的平台上生产高品质的薄膜。独特的反应器设计可以在在极低的功率生产具有优异台阶覆盖的低应力薄膜。该系统可以满足实验室和中试生产环境中的所有安全，设施和工艺标准要求。

价格：￥电议型号：Orion III PECVD产地：美洲
TITAN美国Trion 离子刻蚀与沉积系统

Titan是一套用于半导体生产的十分紧凑、全自动化、带预真空室的等离子系统。$r$n$r$nTitan具有反应离子刻蚀(RIE)配置、高密度电感耦合等离子沉积(HDICP)或等离子增强型化学汽相沉积(PECVD)配置。可对单个基片或带承片盘的基片(3”-300mm)进行处理。它还具有多尺寸批量处理功能。价格适宜且占地面积小。$r$n

价格：￥电议型号：TITAN产地：美洲
Oracle III美国Trion反应离子刻蚀与沉积系统

Oracle III由中央真空传输系统(CVT)、真空盒升降机和最多四个工艺反应室构成。这些工艺反应室与中央负载锁对接，既能够以生产模式运行，也能够作为单个系统独立作业。 Oracle III是市场上最灵活的系统，既可以为实验室环境进行配置(使用单基片装卸)，也可以为批量生产进行配置(使用真空盒升降机进行基片传送)。

价格：￥电议型号：Oracle III产地：美洲
Minilock-Phantom III美国Trion 具有预真空室的反应离子刻蚀机

Minilock-Phantom III 具有预真空室的反应离子刻蚀机。适用于单个基片或带承片盘的基片(3” - 300mm尺寸)，为实验室和试制线生产环境提供最先进的刻蚀能力。它也具有多尺寸批量处理(4x3”; 3x4”; 7x2”)。系统有多达七种工艺气体可以用于刻蚀各种薄膜，如氧化硅、氮化硅、多晶硅、铝、砷化镓、铬、铜、磷化铟和钛。

价格：￥电议型号：Minilock-Phantom III产地：美洲

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