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光刻机&3D打印机
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匀胶涂覆机
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Rion 液体光学颗粒度仪
液体光学颗粒度仪
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半导体辅助工艺/光刻胶
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Minilock-Orion III美国Trion 等离子增强型化学汽相沉积(PECVD)系统
Minilock-Orion III是一套最先进的等离子增强型化学汽相沉积(PECVD)系统。 系统的下电极尺寸可为200mm或300mm，且根据电极配置，可以处理单个基片或带承片盘的基片(3” - 300mm尺寸)，或者多尺寸批量处理基片(4x3”; 3x4”; 7x2”)。可沉积的薄膜包括：氧化物、氮氧化物、无定形硅和碳化硅。
价 格：￥电议型 号：Minilock-Orion III产 地：美洲
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Oracle III美国Trion反应离子刻蚀与沉积系统
Oracle III由中央真空传输系统(CVT)、真空盒升降机和最多四个工艺反应室构成。这些工艺反应室与中央负载锁对接，既能够以生产模式运行，也能够作为单个系统独立作业。 Oracle III是市场上最灵活的系统，既可以为实验室环境进行配置(使用单基片装卸)，也可以为批量生产进行配置(使用真空盒升降机进行基片传送)。
价 格：￥电议型 号：Oracle III产 地：美洲
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Titan美国Trion 离子刻蚀与沉积系统
itan具有反应离子刻蚀(RIE)配置、高密度电感耦合等离子沉积(HDICP)或等离子增强型化学汽相沉积(PECVD)配置。可对单个基片或带承片盘的基片(3”-300mm)进行处理。它还具有多尺寸批量处理功能。价格适宜且占地面积小。
价 格：￥电议型 号：Titan产 地：美洲
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Gemini 和Apollo美国Trion批量生产用设备去胶系统
JBX-8100FS 圆形电子束光刻系统$r$n$r$n· 最新高精密JBX-8100FS圆形电子束光刻系统，通过全方位的设计优化，实现更简便的操作，更快的刻写速度，更小的占地面积和安装空间，并且更加绿色节能。
价 格：￥电议型 号：Gemini 和Apollo产 地：美洲
