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光刻机&3D打印机
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离子刻蚀与沉积
匀胶涂覆机
半导体辅助设备
半导体微纳检测仪器
- 德国Zeiss扫描电镜
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- 德国Sentech薄膜测量仪/光伏测量仪
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- 美国MMR霍尔效应测量仪
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实验检测仪器
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- Oxford pulsar 实验室智能核磁共振波谱仪
- DynaCool 全新一代完全无液氦综合物性测量系统
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- MPMS3最新一代磁学测量系统
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紫外清洗等离子清洗机
- 美Harrich 等离子清洗机
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太阳能检测仪
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德国Netzsch
Rion 液体光学颗粒度仪
液体光学颗粒度仪
奥地利EVG光刻杨键合机压印机
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化学开封机 / 激光开封机
光刻胶/硅片
半导体辅助工艺/光刻胶
日立Hitachi
UV灯
已选条件
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Minilock-Orion III美国Trion 等离子增强型化学汽相沉积(PECVD)系统
Minilock-Orion III是一套最先进的等离子增强型化学汽相沉积(PECVD)系统。 系统的下电极尺寸可为200mm或300mm，且根据电极配置，可以处理单个基片或带承片盘的基片(3” - 300mm尺寸)，或者多尺寸批量处理基片(4x3”; 3x4”; 7x2”)。可沉积的薄膜包括：氧化物、氮氧化物、无定形硅和碳化硅。
价 格：￥电议型 号：Minilock-Orion III产 地：美洲
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Microwriter ML3英国 Durham 无掩膜光刻机
nanoArch P130是科研3D打印系统，拥有2μm的超高打印精度和5μm的超低打印层厚，从而实现超高精度的样件制作，非常适合高校和研究机构用于科学研究及应用创新。$r$n
价 格：￥电议型 号：Microwriter ML3产 地：欧洲
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Model 200美国 OAI 实验室用手动曝光机
$r$nOAI 200型光刻机是一种具有成本效益的高性能掩模对准器，采用经过行业验证的组件，使OAI成为光刻设备行业的导者。 200型是台式面罩对准器，需要小的洁净室空间。它为研发，或有限规模，试点生产提供了经济的替代方案。利用创新的空气轴承/真空吸盘调平系统，衬底快速平稳地平整，用于平行光掩模对准和在接触曝光期间在晶片上的均匀接触。该系统能够实现一微米分辨率和对准精度。
价 格：￥电议型 号：Model 200产 地：美洲
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瑞士 NanoFrazor 3D纳米结构高速直写机
Raith 150 Two可实现亚5nm的曝光结构，可处理8”晶元及以下样片。$r$n$r$n环境屏蔽罩保证了系统的热稳定性，提高设备对实验室环境的容忍度，即使在相对糟糕的实验室环境下，也能保证系统的正常稳定运行。
价 格：￥电议型 号：产 地：欧洲
