在流化床反应器中,利用六甲基二硅胺烷(HMDS)对气相法制备的纳米二氧化硅进行了表面包覆,研究了包覆温度,包覆时间,HMDS分压等对纳米二氧化硅表面羟基,含碳量,pH值的影响,分析了表面包覆后气相法白炭黑的形态与结构.结果表明气相法白炭黑表面包覆HMDS后 ,团聚状态得到明显改善;随着处理时间的延长,温度的升高以及HMDS分压的升高,经表面处理后的白炭黑的pH值和含碳量增加,表面羟基数明显减少.反应时间小于15min时,包覆速率较快,然后趋于平缓;反应温度小于250°C时,温度对包覆效果影响较大,温度大于400 °C则影响较小;HMDS分压较低时,分压对包覆效果影响较大,当分压超过7.9kPa,则影响甚微. 

六甲基二硅胺烷，CAS号999-97-3，HMDS-瑞禧


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中文名称：六甲基二硅胺烷

英文名称：Hexamethyldisilazane

CAS号：999-97-3

分子式C6H19NSi2

分子量161.39

溶解性：/

规格：mg

纯度：/

储存：/

用途：科研

供货商：西安瑞禧生物科技有限公司

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