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深圳市蓝星宇电子科技有限公司 主营产品：光刻机,真空镀膜机,离子刻蚀机,,半导体辅助材料,半导体微纳检测仪器,太阳能吸收率发射击队率检测仪,,实验检测仪器设备,紫外线UV光清洗机UV灯.

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参观次数：748862

手机网站：http://m.yituig.com/c143096/

商铺地址：http://www.lxyee.net

光刻机&3D打印机

镀膜沉积机

离子刻蚀与沉积

匀胶涂覆机

半导体辅助设备

半导体微纳检测仪器

实验检测仪器

紫外清洗等离子清洗机

太阳能检测仪

德国YXLON 检测仪

德国Netzsch

Rion 液体光学颗粒度仪

液体光学颗粒度仪

奥地利EVG光刻杨键合机压印机

尼康Nikon光刻机

德国Lecia 切片掩膜一体机

日本Elionix

化学开封机 / 激光开封机

光刻胶/硅片

半导体辅助工艺/光刻胶

日立Hitachi

UV灯

已选条件

  • 自动进样稀释模块ASDM

    自动进样稀释模块ASDM专为ICP自动进样器设计，支持2至1000倍的样品溶液稀释，配备两种型号以适应不同溶液类型。该模块可自动添加标准溶液，并能同时清洗稀释探头及准备下一个稀释样品。ASDM提供10ml注射器进行2-20倍稀释，或两支注射器进行50-1000倍稀释。

    价 格：￥电议型 号：产 地：日本

  • 气体电离探测器GED

    气体电离探测器（GED）是一种用于测量气体中金属颗粒浓度的技术，尤其适用于半导体行业中特殊气体的分析。该系统通过一个高效的膜来交换气体，使得样品气体中的金属颗粒能在无需预处理的情况下直接引入到电感耦合等离子体质谱仪（ICP-MS）中进行高灵敏度分析。

    价 格：￥电议型 号：产 地：日本

  • 激光剥蚀多通道原子吸收光谱系统LAGM

    LAGM激光剥蚀多通道原子吸收光谱系统采用飞秒激光和电流计镜，可精确烧蚀 300 毫米晶圆样品，无需小型封闭腔室。系统配备双注射器模型 MSAG_DS，支持标准加入法进行定量分析，具备点和面倾斜度、轮廓及杂质分析功能。系统能全自动操作，支持多种分析模式如全扫描、斑点、直线、块模式及深度剖面模式，适用于晶圆和非晶圆样品的全 面分析。

    价 格：￥电议型 号：产 地：日本

  • Depolab 200德国Sentech PECVD沉积设备

    德国Sentech PECVD沉积设备 Depolab 200， 最大 8 英寸晶圆，高达 400°C 的基板温度，低频混合，300-500 kHz 可选

    价 格：￥电议型 号：Depolab 200产 地：欧洲

  • SI 500 PPD德国Sentech PECVD沉积设备

    德国Sentech PECVD沉积设备 SI 500 PPD,最大 8 英寸晶圆, 高达 350°C 的基板温度, 低频混合，300-500 kHz可选

    价 格：￥电议型 号：SI 500 PPD产 地：欧洲

  • SI 500 D德国Sentech PECVD沉积设备

    德国Sentech PECVD沉积设备 SI 500 D，最大 8 英寸晶圆，RT....300/400°C 基板温度

    价 格：￥电议型 号：SI 500 D产 地：欧洲

  • SI ALD / SI PEALD德国Sentech 原子层沉积设备

    德国Sentech 原子层沉积设备 SI ADL LL/ SI PEALD LL,在 8 英寸晶圆和玻璃基板上实现高度均匀的薄膜厚度, 在具有高纵横比的模型上进行 3D保形沉积, 400/500°C 基板温度, 最大 8 英寸晶圆.

    价 格：￥电议型 号：SI ALD / SI PEALD产 地：欧洲

  • SI ADL LL/ SI PEALD LL德国Sentech 原子层沉积设备

    德国Sentech 原子层沉积设备 SI ADL LL/ SI PEALD LL,在 8 英寸晶圆和玻璃基板上实现高度均匀的薄膜厚度, 在具有高纵横比的模型上进行 3D保形沉积, 400/500°C 基板温度, 最大 8 英寸晶圆.

    价 格：￥电议型 号： SI ADL LL/ SI PEALD LL产 地：欧洲

  • TFXRD-300/200日本理学X射线衍射仪

    日本理学X射线衍射仪 TFXRD-300/200， 适用于Near-Fab Application的无损方式XRD·Mapping Tool有多种光学元件可选的高精度测角仪，用于氮化镓（GaN)质量管理，可对应大规格晶圆的X射线衍射分析（XRD)系统

    价 格：￥电议型 号：TFXRD-300/200产 地：日本

  • TFXRD-300/200日本理学X射线衍射仪

    日本理学X射线衍射仪 TFXRD-300/200， 适用于Near-Fab Application的无损方式XRD·Mapping Tool有多种光学元件可选的高精度测角仪，用于氮化镓（GaN)质量管理，可对应大规格晶圆的X射线衍射分析（XRD)系统

    价 格：￥电议型 号：TFXRD-300/200产 地：日本

  • EDA407电子元器件水份分析仪

    电子元器件水汽分析仪EDA407,● 分析气体：水汽、H2、He、CH4、NH3、 N2、O2、Ar、CO2、氟碳化合物等气体● 质量数范围: 1-512amu ● 检测极限: <100PPM(水汽) < 10PPM(其他气体）

    价 格：￥电议型 号：EDA407产 地：欧洲

  • URE-2000/30 D多波段定制型紫外光刻机

    具备真空接触曝光、硬接触曝光、压力接触曝光，以及接近式曝光四种功能

    价 格：￥ 490000型 号：URE-2000/30 D产 地：中国大陆

  • Model 659OAI UV METER

    OAI is a world leader in UV Liight & Energy Measurement Instrumentation used for reliable accurate calibrated control of the hotolithography processes in the Semiconductor

    价 格：￥电议型 号：Model 659产 地：美洲

  • DSC 300德国NETZSCH差示扫描量热仪

    差示扫描量热仪DSC 300 ，是全面、可靠的DSC仪器系列，表征材料热性能游刃有余。

    价 格：￥电议型 号：DSC 300产 地：欧洲

  • BT4000ADLEMA检漏机

    ADLEMA先进的检漏机BT4000$r$n$r$n技 术 规 格$r$n$r$n• 尺 寸 :270x200x300mm$r$n$r$n• 重 量 :8kg$r$n$r$n• 电 源 输 入 :24 VDC$r$n$r$n• 管 径 :4x2, 6x4, 8x6, 10x8$r$n

    价 格：￥电议型 号：BT4000产 地：欧洲

  • HBO350W/S，HBO5000W/S,HBO200W/DC,HBO1000W/DSUSS光刻机用曝光灯HBO系列

    SUSS苏斯/休斯，EVG, OAI等系列光刻机用曝光灯HBO系列，$r$nSUSS苏斯，EVG, OAI公司生产的半导体和太阳能行业用光刻机，目得到业界的广泛认同，该系列光刻机曝光系统的曝光灯，主要是由德国欧司朗及日本牛尾公司生产的曝光灯进行配套供应。欧司朗/牛尾曝光灯系列，具备良好的光通量，稳定的光强度以及优质的品质受到业界的青睐。

    价 格：￥电议型 号：HBO350W/S，HBO5000W/S,HBO200W/DC,HBO1000W/D产 地：中国大陆

  • DSC 3500 Sirius德国Netzsch 差示扫描量热仪

    德国Netzsch 差示扫描量热仪DSC 3500 Sirius，该技术操作简便，分析快速，在研发、制造和质量检验域中逐渐成为不可取代的检测技术。针对具体材料、产品的应用和性能评估及解析，对应有各种各样的标准（如ASTM，DIN，ISO等）。

    价 格：￥电议型 号：DSC 3500 Sirius产 地：欧洲

  • Cyrannus 915MHz德国iplas微波等离子化学气相沉积系统

    德国iplas微波等离子化学气相沉积 iplas Mpcvd 915MHz系统,德国 iplas公司的独家利多天线耦合微波等离子技术（CYRANNUS®），可在反应腔中实现高的 SP3 键转化率，使得腔体中充满过饱和原子氢和含碳基团，从而有效地提高了沉积速率并且使得金刚石的沉积质量得到改善，这正是获取优质金刚石的技术基础。

    价 格：￥ 4980000型 号：Cyrannus 915MHz产 地：欧洲

  • NNDT-4000美Nano-master 热真空太空模拟系统

    美Nano-master 热真空太空模拟系统 NDT-4000,是一款器件测试系统，俗称“热真空系统”,可以用于真空和可控的均匀加热以及冷却循环条件下的器件或样片测试。

    价 格：￥电议型 号：NNDT-4000产 地：美洲

  • NRR-4000, NRE-4000, NRE-3000, NDR-4000美Nano-master RIE反应离子刻蚀系统

    美Nano-master RIE反应离子刻蚀系统$r$n$r$nNRR-4000 独立式双RIE或ICP刻蚀系统$r$n$r$nNRE-4000 独立式RIE或ICP系统$r$n$r$nNRE-3000 台式RIE系统$r$n$r$nNDR-4000 深硅刻蚀系统

    价 格：￥电议型 号：NRR-4000, NRE-4000, NRE-3000, NDR-4000产 地：美洲

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