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光刻胶/硅片
半导体辅助工艺/光刻胶
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HMS-7000韩ECOPIA变温光霍尔效应测试仪
韩ECOPIA 变温光霍尔效应测试仪 HMS-7000，可以通过改变照射在样品上的不同波长范围的光源（红、绿、蓝光源）， 得出载流子浓度、迁移率、电阻率及霍尔系数等半导体电学重要参数随光源强度变化的曲线。$r$n$r$n
价 格：￥电议型 号：HMS-7000产 地：其它
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TESA 2000美AZ太阳能吸收率发射率测量仪
美AZ 总辐射度/太阳能吸收率(TESA)便携式反射计 TESA 2000，根据ASTM E408测定热发射率和空气质量为零时的太阳吸收率(空间应用)。它紧凑，轻巧，坚固耐用，符合人体工程学设计，便于在野外或实验室中使用。$r$n$r$n
价 格：￥电议型 号：TESA 2000产 地：欧洲
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COUGAR EVO德国YXLON 定制化的紧凑型标准X射线检测系统
德国YXLON 定制化的紧凑型标准X射线检测系统COUGAR EVO ，为封装检测、半导体及实验室应用量身定制$r$n$r$n
价 格：￥电议型 号：COUGAR EVO产 地：欧洲
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CHEETAH EVO德国YXLON 定制化的标准X射线检测系统
德国YXLON 定制化的标准X射线检测系统CHEETAH EVO，为封装检测、半导体及实验室应用量身定制、$r$n$r$n
价 格：￥电议型 号：CHEETAH EVO产 地：欧洲
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8600系列美国 Lakeshore 振动样品磁强计
美国 Lakeshore 振动样品磁强计 8600系列：Model 8604, Model 8607, 更科学，更高效$r$n$r$n
价 格：￥电议型 号：8600系列产 地：美洲
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DSC 214 Polyma德国Netzsch差示扫描量热仪
德国Netzsch差示扫描量热仪 DSC 214 Polyma, 特别适用于聚合物热分析的智能系统,该款仪器具有多种新特色，尤其为高分子域的用户提供了及其便捷、强大的方案。
价 格：￥电议型 号：DSC 214 Polyma产 地：欧洲
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KS-42CRion 液体光学颗粒度仪
液体光学颗粒度仪 KS-42C，宽广的测试范围，可测试 0.5~20um 之间的颗粒只需要小小的样品取样量就可以得到高效率高精准的颗粒数据。
价 格：￥电议型 号：KS-42C产 地：日本
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EVG720奥地利EVG紫外纳米压印系统
EVG720紫外纳米压印用于从印章到衬底的紫外图形转移。EVG720自动纳米压印系统允许衬底和印章的尺寸从很小的芯片到150mm直径的圆片范围。
价 格：￥电议型 号：EVG720产 地：欧洲
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HERCULES NIL奥地利EVG紫外纳米压印系统
EVG的HERCULES NIL 300 mm是一个完全集成的纳米压印系统，是EVG的NIL产品组合的新成员。 HERCULES NIL基于模块化平台，在单个平台上将清洗模块，抗蚀剂涂层模块和烘烤预处理模块与EVG的有SmartNIL大面积纳米压印（NIL）模块结合在一起，用于直径大为300 mm的晶片。
价 格：￥电议型 号：HERCULES NIL产 地：中国大陆
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OCTOPLUS 400德国MBE-Komponenten 分子束外延系统
日本Rion液体光学颗粒度仪KS-19F,宽广的测试范围，可测试 0.03~0.13um 之间的颗粒只需要小小的样品取样量就可以得到高效率高精准的颗粒数据。$r$n$r$n$r$nOCTOPLUS 400 是一款通用型MBE系统，非常适合于III/V族， II/VI族，及其他复合半导体材料应用。兼容2-4英寸标准晶片。竖直分割式腔体设计，可以装配各种源炉，实现不同材料分子束外延生长。$r$n$r$n
价 格：￥电议型 号：OCTOPLUS 400产 地：欧洲
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KS-19F日本RION液体光学颗粒度仪
日本Rion液体光学颗粒度仪KS-19F,宽广的测试范围，可测试 0.03~0.13um 之间的颗粒只需要小小的样品取样量就可以得到高效率高精准的颗粒数据。$r$n$r$n$r$n$r$n$r$n
价 格：￥电议型 号：KS-19F产 地：中国大陆
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KS-41B日本RION液体光学颗粒度仪
日本RION液体光学颗粒度仪KS-41B，可检测光阻产品、SOG 等产品中 0.1um 的颗粒。$r$n$r$n$r$n$r$n
价 格：￥电议型 号：KS-41B产 地：日本
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AS-ONE法国Annealsys 高温退火炉
法国Annealsys 高温退火炉AS-ONE, 多用途快速热处理设备，适用于硅，化合物半导体，太阳能电池& MEMS.
价 格：￥电议型 号：AS-ONE产 地：中国大陆
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Pioneer 180-2-PLD氮化镓支撑片，晶片，硅片
2英寸氮化镓自支撑晶片, 10×10.5mm²氮化镓自支撑晶片, 非性/半性氮化镓自支撑晶片, 4英寸氮化镓厚膜晶片, 2英寸氮化铝厚膜晶片, 2英寸氮化镓厚膜晶片
价 格：￥电议型 号：Pioneer 180-2-PLD产 地：中国大陆
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Pioneer 180-2-PLD美国Neocera 脉冲激光沉积系统
美国Neocera 脉冲激光沉积系统Pioneer 180-2-PLD,一种用途广泛的、用于薄膜沉积以及纳米结构和纳米粒子合成的方法
价 格：￥电议型 号：Pioneer 180-2-PLD产 地：美洲
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CS-200z日本Ulvac返回式真空溅射装置
返回式真空溅射装置 CS-200z，高真空交直流溅射设备.适用于金属、合金 、陶瓷材料的高品质溅射成膜.
价 格：￥电议型 号：CS-200z产 地：日本
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EVG620奥地利EVG单双面光刻机(带有压印功能）
EVG620 单面/双面光刻机(带有压印功能），EVG620 是一款非常灵活和可靠的光刻设备，可配置为半自动也可以为全自动形式。EVG620 既可以用作双面光刻机也可以用作 150mm 硅片的精确对准设备；既可以用作研发设备，也可以用作量产设备。精密的契型补偿
价 格：￥电议型 号：EVG620产 地：欧洲
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EVG510IS奥地利EVG键合机
EVG520IS是一款设计用于小批量生产的半自动晶圆键合系统， 大硅片允许尺寸为200mm。集EVG新技术及客户反馈基础上设计的EVG520IS，配备了EVG公司的利吸盘设计---这种吸盘可以提供对称的快速加热和冷却功能。EVG520IS的很多优势特性，如独立的上下盘加热和高压键合工艺、高度的材料和工艺灵活性等，都帮助客户很好的实施键合研究和生产。
价 格：￥电议型 号：EVG510IS产 地：欧洲
