产品展示(第24页)_深圳市蓝星宇电子科技有限公司

5000E美国 OAI 光刻机

OAI 5000E型大面积掩光刻机是一种先进的高性能，全自动掩模对准器和曝光工具，可为大型平板应用提供超精密，顶，亚微米对准和分辨率。其灵活的设计允许在各种基材（圆形或方形）上印刷高达300mm或20“×20”。曝光系统兼容近，中，或深紫外范围的光刻胶，并具有计算机控制的LED显微镜照明，在不太理想的观察环境中观察。

价格：￥电议型号：5000E产地：美洲
PhableR 100德国Eulitha 高分辨紫外光刻系统

PhableR 100 紫外光刻机是一套低成本的光学曝光系统，但却能获得高分辨率的周期性结构。同传统的紫外曝光机类似，涂覆了光刻胶的晶片以接近方式放置在掩膜版下面，被紫外光束照射。由于Eulitha公司拥有突破性的PHABLE 曝光技术，在"PHABLE"模式下，分辨率不再受到衍射的限制，从而曝光出亚微米的线性光栅和二维光栅（六角形和正方形），且曝光结果非常均匀，质量很好。

价格：￥电议型号：PhableR 100产地：欧洲
瑞士 NanoFrazor 3D纳米结构高速直写机

Raith 150 Two可实现亚5nm的曝光结构，可处理8”晶元及以下样片。$r$n$r$n环境屏蔽罩保证了系统的热稳定性，提高设备对实验室环境的容忍度，即使在相对糟糕的实验室环境下，也能保证系统的正常稳定运行。

价格：￥电议型号：产地：欧洲
德国 Raith 150 Two 高分辨电子束曝光系统

Raith 150 Two可实现亚5nm的曝光结构，可处理8”晶元及以下样片。$r$n$r$n环境屏蔽罩保证了系统的热稳定性，提高设备对实验室环境的容忍度，即使在相对糟糕的实验室环境下，也能保证系统的正常稳定运行。

价格：￥电议型号：产地：欧洲
德国Raith Voyager 新一代超高分辨率电子束光刻机

德国Raith Voyager 新一代超高分辨率电子束光刻机,系统可实现8英寸样品的高速曝光。系统的稳定性是非常关键的指标，可保证大面积均匀曝光。该系统外部采用环境屏蔽罩，即使在稍差的实验室环境下，仍然能确保系统具有非常好的热稳定性，提高系统对外界环境的容忍度。

价格：￥电议型号：产地：欧洲
EBPG5150德国Raith 电子束光刻机

EBPG5150使用了155mm大小的样品台，采用跟EBPG5200一样的通用光刻平台设计，对电子束直写应用进行了优化。它可以载入不同大小的样品,包括多片散片以及完整的硅片。

价格：￥电议型号：EBPG5150产地：欧洲
Pioneer Two德Raith 电子束光刻机

系统中集成了高精度的激光干涉工作台，运动行程为50 x 50 x 25mm，XY方向定位精度为2nm，可以实现精确的拼接套刻，拼接套刻精度≤50nm。

价格：￥电议型号：Pioneer Two产地：欧洲
Prexision-800.瑞典 Mycronic 光刻机

主要优势$r$n提高分辨率 25%$r$n$r$n更佳的贴片性能 70%$r$n$r$n更快的写入速度20%

价格：￥电议型号：Prexision-800.产地：欧洲
FPS6100瑞典 Mycronic 掩膜版光刻机

瑞典 Mycronic 掩膜版光刻机 FPS6100，用于制作高精度掩膜版，广泛用于半导体，TFT-LCD，微电子等行业。

价格：￥电议型号：FPS6100产地：欧洲
T10x10，T16x16美国UVOCS 紫个臭氧清洗机

坚固耐用，全部不锈钢结构。UVO清洗设备的核心是低压石英汞灯，产生254和185nm范围的紫外线。臭氧和等离子氧气产生，有机污染物分子在吸收254nm波长紫外线后被激发或分解；激发的有机污染物可以和等离子氧原子反应形成气体，比如CO₂,等。可以去除皮肤油脂，有机硅油和油脂，助焊剂，残留的光刻胶，胶水溶剂，碳等。

价格：￥电议型号：T10x10，T16x16产地：美洲
Photonic Professional GT2英国Nanobean 电子束光刻机

英国Nanobean NB5 电子束光刻机,具有良好的稳定性，平均正常运行时间超过93%.

价格：￥电议型号：Photonic Professional GT2产地：欧洲

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