产品展示(第22页)_深圳市蓝星宇电子科技有限公司

URE-2000A紫外单面光刻机

URE-2000A 型紫外单面光刻机，中科院设计生产，曝光面积：150mmX150mm

价格：￥电议型号：URE-2000A产地：中国大陆
URE-2000/A8紫外单面光刻机

URE-2000/A8 紫外单面光刻机，中科院设计生产。曝光面积： 200mm×200mm

价格：￥电议型号：URE-2000/A8产地：中国大陆
URE-2000/A12紫外单面光刻机

URE-2000系列紫外单面光刻机，主要型号有：URE-2000A，URE-2000B，URE-20000/35,URE-20000/35A，URE-2000/25,URE-2000/17.由中国科学院制造生产。

价格：￥电议型号：URE-2000/A12产地：中国大陆
SI 500德国 Sentech 等离子体 ICP 干法刻蚀机

SENTECH SI 500 电感耦合等离子体ICP干法刻蚀系统，$r$n感应耦合等离子刻蚀机台，低损伤纳米结构刻蚀，高速率刻蚀，内置ICP等离子源，动态温控。

价格：￥电议型号：SI 500产地：欧洲
ICP-RIE SI 500德国 Sentech 等离子刻蚀机

德国Sentech ICP-RIE SI 500 等离子刻蚀机，代表了电感耦合等离子体(ICP)加工在研究和生产上的先优势。它以PTSA等离子体源、动态控温基片电、全控真空系统、先进的Sentech 控制软件为基础，采用远程现场总线技术，为操作SI 500提供了非常人性化的通用用户界面。灵活性和模块化是SI 500的设计特点。

价格：￥电议型号：ICP-RIE SI 500产地：欧洲
RIE SI591德国 Sentech 反应离子刻蚀机

ENTECH RIE SI591 平板电容式反应离子刻蚀机，兼容多种氯基或氟基刻蚀工艺；小型化和高度模块化；SENTECH控制软件

价格：￥电议型号：RIE SI591产地：欧洲
Etchlab 200 RIE德国 Sentech 等离子刻蚀机

Etchlab 200 RIE等离子体蚀刻机是一种将RIE平行板电设计的优点与直接负载的低成本设计相结合的直接负载等离子体蚀刻机系列。Etchlab 200具有简单快速的样品加载功能，从零件到200a€‰mm或300a€‰mm直径的晶圆片直接加载到电或载体上。$r$n

价格：￥电议型号：Etchlab 200 RIE产地：欧洲
Etchlab200德国 Sentech 等离子刻蚀机

SENTECH Etchlab200 经济型反应离子刻蚀机(可升级)，包括抽速更大的真空单元、预真空室及附加气路等。$r$n

价格：￥电议型号：Etchlab200产地：欧洲
Depolab 200德国 Sentech 等离子沉积机

PECVD Depolab 200 等离子体沉积机,将平行板等离子体源设计与直接负载相结合,可以升为更大的抽油机、低频电源和额外的燃气管道。

价格：￥电议型号：Depolab 200产地：欧洲
SI 500 PPD德国 Sentech 等离子沉积机

德国Sentech PECVD SI 500 PPD等离子沉积机,。它是基于平面电容耦合等离子体源，真空加载锁定，$r$n控温基片电，可选配低频混频，全控无油真空系统采用先进的森泰克控制软件，采用远程现场总线技术，具有非常友好的通用用户界面用于操作SI 500 PPD的用户界面。

价格：￥电议型号：SI 500 PPD产地：欧洲
SI 500 D德国 Sentech 等离子沉积机

德国 Sentech SI 500 D 等离子沉积机，具有特殊的等离子体特性，如高密度、低离子能量和介质膜的低压沉积。

价格：￥电议型号：SI 500 D产地：欧洲
PE-ALD德国 Sentech 等离子体增强--原子层沉积系统

德国 Sentech PE-ALD 等离子体增强--原子层沉积系统，是在3D结构上逐层沉积超薄薄膜的工艺方法。薄膜厚度和特性的精确控制通过在工艺循环过程中在真空腔室分步加入置物实现。等离子增强原子层沉积（PEALD）是用等离子化的气态原子替代水作为氧化物来增强ALD性能的先进方法。

价格：￥电议型号：PE-ALD产地：欧洲
美Arradiance 台式三维原子沉积系统ALD台式三维原子沉积系统ALD

美Arradiance 台式三维原子沉积系统ALD，在小巧的机身（78 x56 x28 cm）中集成了原子层沉积所需的所有功能，可最多容纳9片8英寸基片同时沉积。GEMStar XT全系配备热壁，结合前驱体瓶加热，管路加热，横向喷头等设计，使温度均匀性高达99.9%，气流对温度影响减少到0.03%以下。

价格：￥电议型号：美Arradiance 台式三维原子沉积系统ALD产地：美洲
MEB550SL3法Plassys超高真空多腔体电子束镀膜机

法Plassys超高真空多腔体电子束镀膜机MEB550SL3，可以用于沉积Ti, Ni, Au, Cr, Al, Al2O3等金属及氧化物薄膜，目全球主要超导量子实验室均使用该设备制备超导Al结（量子比特和约瑟夫森结）和量子器件，可以制备大面积、高度稳定性和可重复性超导结。

价格：￥电议型号：MEB550SL3产地：欧洲
DV-502B英国 Denton 热蒸发溅射仪

Denton 热蒸发溅射仪DV-502B，在大气和高真空之间快速循环。

价格：￥电议型号：DV-502B产地：欧洲
DENTON磁控溅射及电子束蒸发薄膜沉积平台英国 DENTON 磁控溅射及电子束蒸发薄膜沉积平台

DENTON 磁控溅射及电子束蒸发薄膜沉积平台,提供了薄膜工业中广泛的配置和沉积模式:电子束蒸发、电阻蒸发、溅射、离子镀和离子辅助沉积。

价格：￥电议型号：DENTON磁控溅射及电子束蒸发薄膜沉积平台产地：欧洲
108Auto美TED PELLA 自动离子溅射仪

108Auto是一款结构紧凑的桌上型镀膜系统，特别适用于扫描电镜成像中非导电样品高质量镀膜。

价格：￥电议型号：108Auto产地：美洲
NLD-4000美Nano-master 原子沉积机

Nano-master NLD-4000 是一款独立式计算机控制的ALD系统，全自动工艺控制并包含完整的安全连锁功能，能够沉积半导体应用中的氧化物和氮化物（比如AlN, GaN, TaN, TiN, Al2O3, ZrO2, LaO2, HfO2），支持太阳能和MEMS等众多域的应用

价格：￥电议型号：NLD-4000产地：美洲
CL7000俄罗斯 Optosystem 准分子激光器

俄罗斯 Optosystem 准分子激光器：CL7000, 准分子激光器是传统的气体激光器，由于波长短（紫外），短脉冲宽度，高脉冲能量，是激光器家族不可替代的品种！应用上，准分子激光器在脉冲沉积镀膜（PLD），光纤光栅刻写，LASIK，光刻，微纳加工等方面占主导的地位。

价格：￥电议型号：CL7000产地：欧洲
Sigma SEM德Zeiss 电子束直写仪

德Zeiss Sigma SEM 电子束直写仪,利用曝光抗蚀剂，采用电子束直接曝光，可在各种衬底材料表面直写各种图形，图形结构（小线宽为10mm），是研究材料在低维度、小尺寸下量子行为的重要工具。广泛应用于纳米器件，光子晶体，低维半导体等沿域。

价格：￥电议型号：Sigma SEM产地：欧洲

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