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光刻机&3D打印机
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离子刻蚀与沉积
匀胶涂覆机
半导体辅助设备
半导体微纳检测仪器
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- 美国MMR霍尔效应测量仪
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实验检测仪器
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- Oxford pulsar 实验室智能核磁共振波谱仪
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- MPMS3最新一代磁学测量系统
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紫外清洗等离子清洗机
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太阳能检测仪
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德国Netzsch
Rion 液体光学颗粒度仪
液体光学颗粒度仪
奥地利EVG光刻杨键合机压印机
尼康Nikon光刻机
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日本Elionix
化学开封机 / 激光开封机
光刻胶/硅片
半导体辅助工艺/光刻胶
日立Hitachi
UV灯
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JEM-F200场发射扫描透射电子显微镜
JEM-F200 场发射透射电子显微镜，以节能环保、减排低碳为理念开发的JEM-F200场发射透射电子显微镜，不仅提高了空间分辨率和分析性能，还采用了新的操作系统可满足多种使用途径，易用性强，外观设计精炼，能为不同层次的用户提供新奇的操作体验。
价 格：￥电议型 号：JEM-F200产 地：日本
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JEM-2100PlusJEOL扫描透射电子显微镜 Plus
日本电子JEM-2100Plus 透射电子显微镜，不仅拥有信誉卓著的JEM-2100 的电子光学系统，还增加了新的控制系统，大幅提高了可操作性。 多功能电子显微镜JEM-2100Plus性能优越，操作方便，简明易懂，在材料、医学、生物学等多个研究域提供优异的解决方案。
价 格：￥电议型 号：JEM-2100Plus产 地：日本
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JEM-3200FSJEOL场发射电子显微镜
JEM-3200FS场发射电子显微镜配备了高加速电压为300kV的场发射电子枪（FEG）和镜筒内置式Ω型能量过滤器，能为广泛的研究域提供各种全新的解决方案。
价 格：￥电议型 号：JEM-3200FS产 地：日本
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EM-05500TGPTEM断层扫描系统
日本电子JEOL EM-05500TGP TEM断层扫描系统，采用独特算法的软件，实现了从获取连续倾斜图像到三维重构整个过程的自动化。
价 格：￥电议型 号：EM-05500TGP产 地：日本
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JED-2300T日本JEOL能谱仪
JED-2300T 能谱仪是以“图像观察和分析”为基本理念的TEM/EDS集成系统。在分析数据过程中，自动采集电镜主机的倍率、加速电压等参数，进行数据管理。
价 格：￥电议型 号：JED-2300T产 地：日本
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JEM-1000超高压扫描透射电子显微镜
JEM-1000 超高压透射电子显微镜，由于超高压透射电子显微镜的加速电压很高电子波长很短，即使增大物镜靴之间的间隙，也能获得高分辨率的图像。此外，电子束具有很强的穿透能力，即使厚样品也能观察到清晰的图像，这是超高压透射电子显微镜的大优点。
价 格：￥电议型 号：JEM-1000产 地：日本
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Quantum XD德国Nanoscrib 双光子微纳3D打印机
德国Nanoscrib 双光子微纳3D打印机Quantum X,结合了灰度光刻机的卓越性能和纳米筛网创的双光子聚合技术的精确性和灵活性。该无掩模光刻系统实现了二维和2.5D的衍射和折射显微光学的快速制作。
价 格：￥电议型 号：Quantum XD产 地：欧洲
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Crossbeam 350，Crossbeam 550德国ZEISS蔡司聚焦离子束扫描电镜FIB/SEM
$r$n德国ZEISS蔡司聚焦离子束扫描电镜FIB/SEM Crossbeam 350，Crossbeam 550
价 格：￥电议型 号：Crossbeam 350，Crossbeam 550产 地：欧洲
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PlasmaPro 800 RIE英国Oxford 反应离子刻蚀机
$r$nPlasmaPro 800系列是结构紧凑、且使用方便的直开式系统，该系统为大批量晶圆和300mm晶圆上的反应离子蚀刻（RIE）工艺提供了灵活的解决方案。大尺寸的晶圆平台能够处理量产别的批量以及300mm晶圆的工艺。$r$n
价 格：￥电议型 号：PlasmaPro 800 RIE产 地：欧洲
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V400E德国 KSI 单探头多用途超声波扫描显微镜
$r$nKSI V400E 单探头多用途超声波扫描显微镜，是实验室、研发和工业生产线主流机型。$r$n
价 格：￥电议型 号：V400E产 地：欧洲
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V-Octo德国 KSI 八探头大型超声波扫描显微镜系统
KSI V-Octo 八探头大型超声波扫描显微镜系统，该系统同时使用8只换能器，能最大限度的确保快速图像采集和高效能。
价 格：￥电议型 号：V-Octo产 地：欧洲
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Nano型KSI高分辨率表层缺陷超声波扫描显微镜系统
KSI－Nano型高分辨率表层缺陷超声波扫描显微镜系统$r$n声学显微成像系统和光学显微成像系统的完美结合$r$n
价 格：￥电议型 号：Nano型产 地：欧洲
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i-IngotKSI 型全自动晶锭分析检测系统
KSI i-Ingot型全自动晶锭分析检测系统,适用于对晶锭的无损检测，有了它，晶锭内部的裂缝或杂质就能得到快速检测，晶锭的尺寸可达450mm，检测时间短，也不需要做其它设定。
价 格：￥电议型 号：i-Ingot产 地：欧洲
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i-Wafer德国KSI 型 全自动晶圆超声波缺陷检测系统
德国KSI i-Wafer型全自动晶圆超声波缺陷检测系统，在KSI i-Wafer的探测下，晶圆中的孔隙、分层或者杂质都能被发现。尺寸在450mm的多种晶圆也能进行检测
价 格：￥电议型 号：i-Wafer产 地：欧洲
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SII德国 ParcanNano百及纳米单离子注入系统
ParcanNano 纳米精准定位的单离子注入系统 SII,基于新型扫描针尖精准定位的离子注入系统，实现有效控制注入半导体器件的杂质种类、数量和位置。可用于基于电离杂质诱导的量子点所构建的量子信息域，研制的设备可用于探索纳米结构器件、量子比特系统和量子信息处理器电路的开发。
价 格：￥电议型 号：SII产 地：欧洲
