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已选条件
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URE-2000/30 型紫外单面光刻机
URE-2000/30 型紫外单面光刻机,高倍率双目双视场显微镜和 22 英寸宽屏液晶显示同时观察对准过程，并提供 USB 输出；既满足高精度对准，又可用于检测曝光结果，且曝光结果和方便存储
价 格：￥电议型 号：URE-2000/30 型产 地：中国大陆
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URE-2000S/35L（B）型双面光刻机
URE-2000S/35L（B）型双面光刻机, 曝光面积：4 英寸, 正面对准采用双目双视场对准显微镜：既可通过目镜目视对准，也可通过 CCD+显示器对准，光学合像，光学 大倍数 400 倍，光学+电子放大 800 倍
价 格：￥电议型 号：URE-2000S/35L（B）型产 地：中国大陆
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URE-2000S/35L（A）型紫外双面光刻机
URE-2000S/35L（A）型紫外双面光刻机，曝光面积：6 英寸，正面对准采用双目双视场对准显微镜：既可通过目镜目视对准，也可通过 CCD+显示器对准，光学合像，光学大倍数 400 倍，光学+电子放大 800 倍
价 格：￥电议型 号：URE-2000S/35L（A）型产 地：中国大陆
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URE-2000S/25S 型双面光刻机
URE-2000S/25S 型双面光刻机，曝光面积：4 英寸（或 6 英寸），正面对准采用双目双视场对准显微镜：既可通过目镜目视对准，也可通过 CCD+显示器对准，光学合像，光学大倍数 400 倍，光学+电子放大 800 倍
价 格：￥电议型 号：URE-2000S/25S 型产 地：中国大陆
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URE-2000S/A8 型紫外双面光刻机
URE-2000S/A8 型紫外双面光刻机, 曝光面积：8 英寸, 曝光波长：365nm： 15mW/cm，405nm：15-30mW/cm2, 对准精度：±2 μm （双面,片厚 0.8mm）±0.8 μm （单面）
价 格：￥电议型 号：URE-2000S/A8 型产 地：中国大陆
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URE-2000S/B型紫外双面光刻机
URE-2000S/B 型紫外双面光刻机,曝光面积：6 英寸，对准精度：± 2μm （双面,片厚 0.8mm），± 0.8μm （单面）
价 格：￥电议型 号：URE-2000S/B型产 地：中国大陆
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URE-2000S/25 型紫外双面光刻机
URE-2000S/25 型紫外双面光刻机，曝光面积：4 英寸，正面对准采用双目双视场对准显微镜：既可通过目镜目视对准，也可通过 CCD+显示器对准，光学合像，光学大倍数 400 倍，光学+电子放大 800 倍
价 格：￥电议型 号：URE-2000S/25 型产 地：中国大陆
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URE-2000S/25A紫外双面光刻机型紫外单面光刻机
URE-2000S/25A 型紫外双面光刻机，曝光面积：6 英寸，分辨力：1 μm
价 格：￥电议型 号：URE-2000S/25A产 地：中国大陆
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URE-2000/25型紫外单面光刻机
URE-2000/25 型紫外单面光刻机，曝光面积：4 英寸,分辨力：1 μm（胶厚 2 μm的正胶）,对准精度：± 0.8μm
价 格：￥电议型 号：URE-2000/25产 地：中国大陆
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URE-2000/17型紫外单面光刻机（台式）
URE-2000/17 型紫外单面光刻机（台式）,曝光面积：4 英寸,分辨力：1.5μm（胶厚 2 m 的正胶）,对准精度：±1μm$r$n$r$n
价 格：￥电议型 号：URE-2000/17产 地：中国大陆
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URE-2000/35L紫外单面光刻机
URE-2000/35L 型紫外单面光刻机,曝光面积：100mm×100mm；分辨力：1.0 μm（胶厚 2.0 μm 的正胶，365nm 波长）
价 格：￥电议型 号：URE-2000/35L产 地：中国大陆
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URE-2000/35紫外单面光刻机
URE-2000/35 型紫外单面光刻机,非常适合工厂（效率高，操作傻瓜型，自动化程度高）和高校教学科研（可靠性好，演示方便）采用自动找平，具备真空接触曝光、硬接触曝、压力接触曝以及接近式曝光四种功能，自动分离对准间隙和消除曝光间隙，采用 350W 进口（德国）直流汞灯，可调节光的能量密度。设备外形美观精制，性能非常可靠，自动化程度很高，操作十分方便。
价 格：￥电议型 号：URE-2000/35产 地：中国大陆
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URE-2000/35A紫外单面光刻机
URE-2000/35A 型紫外单面光刻机,,非常适合工厂（效率高，操作傻瓜型，全自动）和高校教学科研（可靠性好，演示方便）采用自动找平，具备真空接触曝光、硬接触曝、压力接触曝以及接近式曝光四种功能，自动分离对准间隙和消除曝光间隙，采用 350W 进口（德国）直流汞灯，可调节光的能量密度。设备外形美观精制，性能非常可靠，自动化程度很高，操作十分方便。
价 格：￥电议型 号：URE-2000/35A产 地：中国大陆
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DS-2000/14G型无掩模单面光刻机
DS-2000/14G 型无掩模单面光刻机,采用 DMD 作为数字掩模，像素数 1024×768 或 1920×1080 或 25601600 三种选配,采用缩小投影光刻物镜成像，分辨力 1um。
价 格：￥电议型 号：DS-2000/14G产 地：中国大陆
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DS-2000/14K无掩膜单面光刻机
DS-2000/14K 无掩膜单面光刻机，采用 DMD 作为数字掩模，像素数 1024×768，采用 14 倍缩小投影光刻物镜成像。
价 格：￥电议型 号：DS-2000/14K产 地：中国大陆
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URE-2000S 系列双面光刻机紫外双面光刻机
URE-2000S 系列双面光刻机，对准精度：±2 mm（双面,片厚 0.8mm），±0.8mm（单面）
价 格：￥电议型 号：URE-2000S 系列双面光刻机产 地：中国大陆
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URE-2000 系列紫外单面光刻机
URE-2000 系列紫外单面光刻机$r$n此系列包含六种型号：URE-2000A,URE-2000B,URE-2000/35,URE-2000/35A,URE-2000/25,URE-2000/17$r$n
价 格：￥电议型 号：URE-2000 系列产 地：中国大陆
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P21百及纳米PancanNano电子束光刻机
新一代超高精度电子束光刻机 P21，样品尺寸覆盖 2/4/6 英寸晶圆，超高写场拼接精度，电子束闭环控制系统，束流的时间及空间稳定性高，高性能 30 kV 电子束光刻机。
价 格：￥电议型 号：P21产 地：欧洲
