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光刻机&3D打印机
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镀膜沉积机
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离子刻蚀与沉积
匀胶涂覆机
半导体辅助设备
半导体微纳检测仪器
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- 德国KSI超声波扫描显微镜
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- 美国Filmetrics膜厚测量仪
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- 美国MMR霍尔效应测量仪
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- MPMS3最新一代磁学测量系统
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紫外清洗等离子清洗机
- 美Harrich 等离子清洗机
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太阳能检测仪
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Rion 液体光学颗粒度仪
液体光学颗粒度仪
奥地利EVG光刻杨键合机压印机
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日本Elionix
化学开封机 / 激光开封机
光刻胶/硅片
半导体辅助工艺/光刻胶
日立Hitachi
UV灯
已选条件
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2012SM美国 OAI 自动化边缘曝光系统
$r$n2012SM型自动边缘曝光系统为使用标准阴影掩模技术的边缘珠去除提供了一种经济高效的方法。 设计用于容纳8“到300mm的晶片，该工具具有自动FOUP装载。 掩模和基材切换可以快速且容易地实现，从而增加该生产工具的通用性和高产量。
价 格：￥电议型 号：2012SM产 地：美洲
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2000SM,2000AF美国 OAI 边缘曝光系统
两种型号的2000型曝光系统包括UV光源，强度控制电源和机器人衬底处理子系统。 UV光源提供发散半角<2.0％的可调强度光束。电源从200W到2,000W。强度控制器传感器直接连接到光源，用于精确的强度监控。机器人衬底处理系统是微处理器控制的，并且可以被编程以适应各种各样的衬底尺寸。
价 格：￥电议型 号：2000SM,2000AF产 地：美洲
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5000E美国 OAI 光刻机
OAI 5000E型大面积掩光刻机是一种先进的高性能，全自动掩模对准器和曝光工具，可为大型平板应用提供超精密，顶，亚微米对准和分辨率。 其灵活的设计允许在各种基材（圆形或方形）上印刷高达300mm或20“×20”。 曝光系统兼容近，中，或深紫外范围的光刻胶，并具有计算机控制的LED显微镜照明，在不太理想的观察环境中观察。
价 格：￥电议型 号：5000E产 地：美洲
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PhableR 100德国Eulitha 高分辨紫外光刻系统
PhableR 100 紫外光刻机是一套低成本的光学曝光系统，但却能获得高分辨率的周期性结构。同传统的紫外曝光机类似，涂覆了光刻胶的晶片以接近方式放置在掩膜版下面，被紫外光束照射。由于Eulitha公司拥有突破性的PHABLE 曝光技术，在"PHABLE"模式下，分辨率不再受到衍射的限制，从而曝光出亚微米的线性光栅和二维光栅（六角形和正方形），且曝光结果非常均匀，质量很好。
价 格：￥电议型 号：PhableR 100产 地：欧洲
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瑞士 NanoFrazor 3D纳米结构高速直写机
Raith 150 Two可实现亚5nm的曝光结构，可处理8”晶元及以下样片。$r$n$r$n环境屏蔽罩保证了系统的热稳定性，提高设备对实验室环境的容忍度，即使在相对糟糕的实验室环境下，也能保证系统的正常稳定运行。
价 格：￥电议型 号：产 地：欧洲
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Prexision-800.瑞典 Mycronic 光刻机
主要优势$r$n提高分辨率 25%$r$n$r$n更佳的贴片性能 70%$r$n$r$n更快的写入速度20%
价 格：￥电议型 号：Prexision-800.产 地：欧洲
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FPS6100瑞典 Mycronic 掩膜版光刻机
瑞典 Mycronic 掩膜版光刻机 FPS6100，用于制作高精度掩膜版，广泛用于半导体，TFT-LCD，微电子等行业。
价 格：￥电议型 号：FPS6100产 地：欧洲
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Photonic Professional GT2英国Nanobean 电子束光刻机
英国Nanobean NB5 电子束光刻机,具有良好的稳定性，平均正常运行时间超过93%.
价 格：￥电议型 号：Photonic Professional GT2产 地：欧洲
