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光刻机&3D打印机
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离子刻蚀与沉积
匀胶涂覆机
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- 美国MMR霍尔效应测量仪
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德国Netzsch
Rion 液体光学颗粒度仪
液体光学颗粒度仪
奥地利EVG光刻杨键合机压印机
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化学开封机 / 激光开封机
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半导体辅助工艺/光刻胶
日立Hitachi
UV灯
已选条件
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DP10-OPO，DP10H-OPO，DP20H-OPO，DS10，DS20，DC150-OPO美国Photonics可调谐激光器
美Photonics可调谐激光器DP10-OPO，DP10H-OPO，DP20H-OPO，DS10，DS20，DC150-OPO，可调谐的波长范围为 1.5 到 2.0um 以及 2.2 到 3.4um。$r$n
价 格：￥电议型 号：DP10-OPO，DP10H-OPO，DP20H-OPO，DS10，DS20，DC150-OPO产 地：美洲
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Prexision-MMS瑞典Mycronic 掩膜计量系统
瑞典Mycronic 掩膜计量系统Prexision-MMS$r$n*更佳的配准: 30%$r$n*更好地将掩膜套合到掩膜上: 20%$r$n*更短的周转时间: 30%$r$n· 新的创新性Prexision平台具备优异的精准度与可重复性$r$n· 用我们的利技术改善配准测量。$r$n· 因为次测量的结果精确无误，这大大给您节省了周转时间。$r$n· 充分发挥我们的Prexision光刻机的潜力。
价 格：￥电议型 号：Prexision-MMS产 地：欧洲
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Quantum XD德国Nanoscrib 双光子微纳3D打印机
德国Nanoscrib 双光子微纳3D打印机Quantum X,结合了灰度光刻机的卓越性能和纳米筛网创的双光子聚合技术的精确性和灵活性。该无掩模光刻系统实现了二维和2.5D的衍射和折射显微光学的快速制作。
价 格：￥电议型 号：Quantum XD产 地：欧洲
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SII德国 ParcanNano百及纳米单离子注入系统
ParcanNano 纳米精准定位的单离子注入系统 SII,基于新型扫描针尖精准定位的离子注入系统，实现有效控制注入半导体器件的杂质种类、数量和位置。可用于基于电离杂质诱导的量子点所构建的量子信息域，研制的设备可用于探索纳米结构器件、量子比特系统和量子信息处理器电路的开发。
价 格：￥电议型 号：SII产 地：欧洲
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ParanNano百及纳米原子力显微镜（工业型）
ParcanNano百及纳米工业型原子力显微镜，可集成大尺寸样品位移台、全自动光学导航系统和配套自动控制软件，可对大尺寸样品 进行全方位的光学成像定位，根据光学成像结果自动标定多个精确测量区域，并根据缺陷/待测结构的特点进行模式识别，智能选取原子力显微镜测量
价 格：￥电议型 号：产 地：欧洲
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P-SPL21百及纳米ParcanNano单探针电子束光刻机
ParcanNano单探针电子束光刻系统P-SPL，扫描针尖低能电子场发射的原理、采用压阻式微纳米针尖和多维纳米定位与测量技术、在半导体器件材料表面制造尺寸小于5纳米线宽结构的高性能微纳加工系统。可在大气环境下，高经济效益、快速直写5纳米以下结构和制备纳米器件。该系统的闭环回路可实现使用同扫描探针对纳米结构的成像、定位、检测和操纵。$r$n
价 格：￥电议型 号：P-SPL21产 地：欧洲
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AFM百及纳米ParcanNano原子力显微镜（快捷型）
百及纳米ParcanNano 高速原子力显微镜AFM（快捷型），是公司开发的一款颠覆性的新型AFM系统。它使用主动式智能针尖，集传感器、驱动器和可功能化的针尖于一身，实现自激发和自传感，无需复杂的激光校准，是取代现有AFM激光传感的巨大改进。该系统可在大气、液态及真空环境下实现对微纳米结构的高速、高效表征，成像精度达到0.2纳米的限精度。
价 格：￥电议型 号：AFM产 地：欧洲
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OAI 6000 FSA全自动上侧或后侧光刻机
OAI 6000 FSA 全自动上侧或后侧光刻机,具有完全自动化的亚微米分辨率的顶侧或背侧对齐，提供无与伦比的性价比。
价 格：￥电议型 号：OAI 6000 FSA产 地：美洲
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URE-2000/35紫外单面光刻机
URE-2000/35 型紫外单面光刻机，中科院设计生产，曝光面积：4 英寸 ，非常适合工厂（效率高，操作傻瓜型，自动化程度高）和高校教学科研 $r$n（可靠性好，演示方便） 。
价 格：￥电议型 号：URE-2000/35产 地：中国大陆
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URE-2000/A12紫外单面光刻机
URE-2000系列紫外单面光刻机，主要型号有：URE-2000A，URE-2000B，URE-20000/35,URE-20000/35A，URE-2000/25,URE-2000/17.由中国科学院制造生产。
价 格：￥电议型 号：URE-2000/A12产 地：中国大陆
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CL7000俄罗斯 Optosystem 准分子激光器
俄罗斯 Optosystem 准分子激光器：CL7000, 准分子激光器是传统的气体激光器，由于波长短（紫外），短脉冲宽度，高脉冲能量，是激光器家族不可替代的品种！应用上，准分子激光器在脉冲沉积镀膜（PLD），光纤光栅刻写，LASIK，光刻，微纳加工等方面占主导的地位。
价 格：￥电议型 号：CL7000产 地：欧洲
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Sigma SEM德Zeiss 电子束直写仪
德Zeiss Sigma SEM 电子束直写仪,利用曝光抗蚀剂，采用电子束直接曝光，可在各种衬底材料表面直写各种图形，图形结构（小线宽为10mm），是研究材料在低维度、小尺寸下量子行为的重要工具。广泛应用于纳米器件，光子晶体，低维半导体等沿域。
价 格：￥电议型 号：Sigma SEM产 地：欧洲
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ExciStar XS200，500美Coherent 准分子激光器
美Coherent ExciStarXS准分子激光器$r$n$r$n超紧凑、轻型、高度可靠的紫外线光源
价 格：￥电议型 号：ExciStar XS200，500产 地：美洲
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Microwriter ML3英国 Durham 无掩膜光刻机
nanoArch P130是科研3D打印系统，拥有2μm的超高打印精度和5μm的超低打印层厚，从而实现超高精度的样件制作，非常适合高校和研究机构用于科学研究及应用创新。$r$n
价 格：￥电议型 号：Microwriter ML3产 地：欧洲
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Model 200美国 OAI 实验室用手动曝光机
$r$nOAI 200型光刻机是一种具有成本效益的高性能掩模对准器，采用经过行业验证的组件，使OAI成为光刻设备行业的导者。 200型是台式面罩对准器，需要小的洁净室空间。它为研发，或有限规模，试点生产提供了经济的替代方案。利用创新的空气轴承/真空吸盘调平系统，衬底快速平稳地平整，用于平行光掩模对准和在接触曝光期间在晶片上的均匀接触。该系统能够实现一微米分辨率和对准精度。
价 格：￥电议型 号：Model 200产 地：美洲
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800MBA美国 OAI 型光学正面和背面光刻机系统
$r$n2012SM型自动边缘曝光系统为使用标准阴影掩模技术的边缘珠去除提供了一种经济高效的方法。 设计用于容纳8“到300mm的晶片，该工具具有自动FOUP装载。 掩模和基材切换可以快速且容易地实现，从而增加该生产工具的通用性和高产量。
价 格：￥电议型 号：800MBA产 地：美洲
