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匀胶涂覆机
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Rion 液体光学颗粒度仪
液体光学颗粒度仪
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光刻胶/硅片
半导体辅助工艺/光刻胶
日立Hitachi
UV灯
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SmartLab日本理学X射线多晶衍射仪
日本理学 XRD 智能 X 射线多晶衍射仪 SmartLab,是当今世界性能的多功能的 X 射线衍射仪,它采用了理学独创的 CBO 交叉光学系统、自动识别所有光学组件、样品台、智能的测量分析软件 SmartLab Guidance,一台仪器可以智能进行普通粉末样品、液体样品、纳米材料、药品、半导体、薄膜样品测试。
价 格:¥电议型 号:SmartLab产 地:日本
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Miniflex 600日本理学XRD X射线衍射仪
日本理学台式 XRD X 射线衍射仪 Miniflex 600,外型小巧方便,具有近于高端分析仪器的测试性能,可以广泛应用于各种材料结构分析的各个领域,是一种适用于大专院校学生实验及研究的 X射线衍射仪,特别适合于野外作业进行材料结构解析
价 格:¥电议型 号:Miniflex 600产 地:日本
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Helios 5 CX美国FEI 扫描电镜
Thermo Scientific Helios 5 D ualBeam 产品系列凭借其最先进的聚焦离子束和电子束性能、专有软件、自动化和易用性特征,重新定义了样品制备和三维表征的标准。
价 格:¥电议型 号:Helios 5 CX产 地:美洲
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NanoTest Vantage英国MML纳米压痕仪
英国MML(微)纳米材料力学性能综合测试系统 NanoTest Vantage, 可以完成微纳米尺度上材料力学性能测试和表征,用于产品的研究和开发。可以用于混凝土、金属材料和生物材料的纳米压痕、纳米划痕、纳米冲击和疲劳等纳米特性测试,获得与服役相关条件下的硬度、模量、蠕变、屈服、塑性功和弹性功、纳米磨损性能、粘结失效、断裂韧性、冲击性能、接触疲劳强度、以及温
价 格:¥电议型 号:NanoTest Vantage产 地:中国大陆
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G200,G200X,iMicro纳米压痕仪
Nano Indenter® G200系统专为各种材料的表征和开发过程中进行纳米级测量而设计。 该系统是一个完全可升级,可扩展且经过生产验证的平台,全自动硬度测量可应用于质量控制和实验室环境。$r$n$r$nNano Indenter® G200X系统是纳米级机械测试仪器,兼具精准、灵活、易于使用等优点。
价 格:¥电议型 号:G200,G200X,iMicro产 地:美洲
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SML Resist英国EM电子束光刻胶
英国EM Resist 电子束光刻胶 SML Resist ,SML50,SML100,SML300,SM600,SML1000,SML2000
价 格:¥电议型 号:SML Resist产 地:欧洲
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AZ1500(1505,1518,1529,1514H,1512HS,1518HS)AZ-i线光刻胶
AZ 光刻胶 AZ1500 系列,其中型号AZ1500(1505,1518,1529,1514H,1512HS,1518HS)
价 格:¥电议型 号:AZ1500(1505,1518,1529,1514H,1512HS,1518HS)产 地:欧洲
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AR-PC5090;AR-PC5091德国ALLRESIS导电胶
德国ALLRESIST防护涂层PMMA Electra 92 (AR-PC 5090)$r$n用于非氮基电子束电阻的导电保护涂层$r$n用于在绝缘衬底上耗散电子束电荷的顶层
价 格:¥电议型 号:AR-PC5090;AR-PC5091产 地:欧洲
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SU-8 2025,SU-8 2035,SU-8 2050,SU-8 2075microchem永久性环氧负性光刻胶
microchem 光刻胶SU-8 2000 永久性环氧负性光刻胶:SU-8 2025,SU-8 2035,SU-8 2050,SU-8 2075,SU-8 2000有12种标准粘度可供选择。薄膜厚度0.5到>200微米,可以通过一个单一的涂层工艺实现。
价 格:¥电议型 号:SU-8 2025,SU-8 2035,SU-8 2050,SU-8 2075产 地:欧洲
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AR-P617电子束光刻胶
德国Allresist 正电子束光刻胶 AR-P 610系列$r$n用于纳米光刻的 AR - P617电子束电阻$r$n共聚物抗蚀剂系列用于生产集成电路和掩模
价 格:¥电议型 号:AR-P617产 地:欧洲
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AR-P 6200正电子束光刻胶
英国Allresist 正电子束光刻胶 AR-P 6200 (CSAR 62),高分辨率,用于生产集成电路和掩模的高对比度电子束电阻。
价 格:¥电议型 号:AR-P 6200产 地:欧洲
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WCT-120,Suns-Voc少子寿命测试仪
sinton少子寿命测试仪WCT-120,Suns-Voc,硅片少子寿命测试系统,采用了独特的测量和分析技术,包括准稳定态光电导(QSSPC)测量方法。可灵敏地反映单、多晶硅片的重金属污染及陷阱效应,表面复合效应等缺陷情况。
价 格:¥电议型 号:WCT-120,Suns-Voc产 地:美洲
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URE-2000S 系列双面光刻机紫外双面光刻机
URE-2000S 系列双面光刻机,对准精度:±2 mm(双面,片厚 0.8mm),±0.8mm(单面)
价 格:¥电议型 号:URE-2000S 系列双面光刻机产 地:中国大陆
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URE-2000 系列紫外单面光刻机
URE-2000 系列紫外单面光刻机$r$n此系列包含六种型号:URE-2000A,URE-2000B,URE-2000/35,URE-2000/35A,URE-2000/25,URE-2000/17$r$n
价 格:¥电议型 号:URE-2000 系列产 地:中国大陆
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P180,PED-180美国Neocera脉冲激光沉积系统及脉冲电子束沉积系统
美国Neocera PLD 脉冲激光沉积系统 P180 , 一种用途广泛的、用于薄膜沉积以及纳米结构和纳米粒子合成的方法. PED 脉冲电子束沉积系统 PED-180,是高能脉冲 (100ns) 电子束 ( 约 1000 A,15 keV) 在靶材上穿透将近 1 um,使靶材快速蒸发形成等离子体。对靶材的非平衡提取(烧灼)使等离子体的组成与靶材的化学计量组成一致。在最佳条件下,靶材的化学计量与沉积
价 格:¥电议型 号:P180,PED-180产 地:美洲
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WCT-120,Suns-Voc美国sinton少子寿命测试仪
sinton少子寿命测试仪WCT-120,Suns-Voc,硅片少子寿命测试系统,采用了独特的测量和分析技术,包括准稳定态光电导(QSSPC)测量方法。可灵敏地反映单、多晶硅片的重金属污染及陷阱效应,表面复合效应等缺陷情况。
价 格:¥电议型 号:WCT-120,Suns-Voc产 地:美洲
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Orbitrap Exploris 480赛默飞Themo Scientific高分辨质谱仪
赛默飞Themo Scientific高分辨质谱仪Orbitrap Exploris 480,占用的空间更小,同时保持了高分辨率、高质量精度和图谱质量。新仪器具有很多新特性,可以延长正常运行时间,并在高通量分析试验中提高超强稳定性 。
价 格:¥电议型 号:Orbitrap Exploris 480产 地:欧洲
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Vanquish UHPLC赛默飞Themo Scientific液相色谱系统
赛默飞Themo Scientific液相色谱系统Vanquish UHPLC的创新技术和对细节设计的注重为高端 UHPLC 设定了新标准,即在得到更多结果和更好分离的同时实现更简易的人机交互。 专为独特的高效 1.5µm 实心核颗粒 Thermo Scientific™ Accucore™ Vanquish™
价 格:¥电议型 号:Vanquish UHPLC产 地:欧洲
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TSQ Vantage LC-MS/MS赛默飞三重四极杆液质联用仪
赛默飞三重四极杆液质联用仪TSQ Vantage LC-MS/MS,拥有最高的灵敏度和最低的噪音, 应对小分子, 多肽, 生物相似物,和生物制品的定量分析。
价 格:¥电议型 号:TSQ Vantage LC-MS/MS产 地:欧洲